| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-19页 |
| ·背景与意义 | 第9-16页 |
| ·研究背景 | 第9-10页 |
| ·气固两相湍流相间相互作用研究现状 | 第10-14页 |
| ·气固两相湍流实验研究现状 | 第14-16页 |
| ·两相流动实验技术综述 | 第16-17页 |
| ·本文研究任务 | 第17-19页 |
| 第二章 气固两相圆湍射流拟序结构实验系统研制 | 第19-26页 |
| ·实验系统的设计 | 第19-24页 |
| ·实验系统关键参数与总体布局 | 第19-20页 |
| ·气相流动系统 | 第20-22页 |
| ·颗粒相流动系统 | 第22-24页 |
| ·流动显示系统 | 第24页 |
| ·示踪粒子的选择 | 第24页 |
| ·小结 | 第24-26页 |
| 第三章 气固两相圆湍射流流动显示 | 第26-35页 |
| ·实验方案与实验条件 | 第26-27页 |
| ·流动显示实验结果 | 第27-34页 |
| ·纵截面上单相射流拟序结构显示 | 第27-30页 |
| ·纵截面上不同粒径颗粒对气相射流拟序结构的影响 | 第30-32页 |
| ·X/D=5 横截面上不同粒径颗粒对气相拟序结构的影响 | 第32-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| 第四章 气固两相圆湍射流PDA 测量 | 第35-53页 |
| ·PDA 测量设备 | 第35-36页 |
| ·实验条件 | 第36-37页 |
| ·横截面上流动参数沿径向的分布变化 | 第37-45页 |
| ·颗粒对气相平均流场的调制作用 | 第37-41页 |
| ·颗粒对气相场的湍流调制作用 | 第41-45页 |
| ·纵截面上流动参数沿轴线的分布变化 | 第45-51页 |
| ·颗粒对气相平均流场的调制作用 | 第45-48页 |
| ·颗粒对气相场的湍流调制作用 | 第48-51页 |
| ·颗粒直径大小对气相湍流调制作用的影响 | 第51-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 第五章 气固两相圆湍射流PIV 测量 | 第53-75页 |
| ·PIV 技术简介 | 第53-55页 |
| ·两相同时测量PIV 实验研究方法 | 第55-57页 |
| ·两相PIV 图像的采集 | 第57-58页 |
| ·两相图像采集的要求 | 第57页 |
| ·两相图像采集方法 | 第57-58页 |
| ·两相PIV 速度场重建程序的研究 | 第58-63页 |
| ·两相图像分离算法 | 第58-59页 |
| ·MQD 速度场重建算法程序 | 第59-63页 |
| ·实验结果与讨论 | 第63-73页 |
| ·单相射流PIV 实验结果 | 第63-65页 |
| ·两相射流PIV 实验结果 | 第65-73页 |
| ·小结 | 第73-75页 |
| 第六章 小突片对两相圆湍射流的激励作用 | 第75-82页 |
| ·射流激励强化混合的方法 | 第75-76页 |
| ·小突片激励装置布置与实验方法 | 第76-77页 |
| ·实验结果与讨论 | 第77-80页 |
| ·小突片对单相射流的激励作用 | 第77-78页 |
| ·小突片对两相射流的激励作用 | 第78-79页 |
| ·横截面上拟序结构图像变化的比较 | 第79-80页 |
| ·小结 | 第80-82页 |
| 第七章 颗粒对气相调制作用的物理机制分析 | 第82-84页 |
| 第八章 结论 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |
| 个人简历 | 第91-92页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第92页 |