纳米线及其阵列的制备与磁性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·纳米材料的发展概况 | 第10-11页 |
| ·一维纳米材料的发展概况 | 第11-12页 |
| ·磁记录的发展趋势 | 第12-13页 |
| ·磁滞现象 | 第13-14页 |
| ·磁各向异性 | 第14-19页 |
| ·磁晶各向异性 | 第14-15页 |
| ·形状各向异性 | 第15-19页 |
| ·应力磁各向异性能 | 第19页 |
| ·单畴磁体及其反磁化过程 | 第19-23页 |
| ·单畴微粒的均匀转动过程和磁滞回线 | 第19-21页 |
| ·单畴微粒的非均匀转动 | 第21-23页 |
| ·研究的主要内容 | 第23页 |
| 参考文献 | 第23-24页 |
| 第二章 实验方法 | 第24-31页 |
| ·电沉积法制备纳米线 | 第24页 |
| ·结构表征与物性测量 | 第24-30页 |
| ·X射线衍射 | 第24-25页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第25-27页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第27-28页 |
| ·振动样品磁强计（VSM） | 第28-30页 |
| 参考文献 | 第30-31页 |
| 第三章 多孔氧化铝模板制备方法的研究 | 第31-44页 |
| ·电化学阳极氧化法生成多孔氧化铝膜的原理 | 第32-35页 |
| ·铝及阳极氧化铝膜的物理、化学性质 | 第32-33页 |
| ·电化学阳极氧化法制氧化铝膜的原理 | 第33-35页 |
| ·影响氧化铝膜结构的参数 | 第35页 |
| ·样品、试剂和装置准备 | 第35-36页 |
| ·样品、试剂 | 第35页 |
| ·反应装置 | 第35-36页 |
| ·样品制备 | 第36-38页 |
| ·预处理 | 第36-37页 |
| ·阳极氧化反应 | 第37页 |
| ·后处理 | 第37-38页 |
| ·样品观察 | 第38-39页 |
| ·实验分析 | 第39-42页 |
| ·反应条件对氧化铝膜的影响 | 第39-40页 |
| ·阳极氧化过程中电流的变化情况 | 第40-42页 |
| ·总结 | 第42页 |
| 参考文献 | 第42-44页 |
| 第四章 单金属磁性纳米线的制备及其磁学特性 | 第44-56页 |
| ·电沉积制备纳米材料的方法 | 第44页 |
| ·实验 | 第44-46页 |
| ·交流电沉积法制备Fe磁性纳米阵列 | 第45页 |
| ·交流电沉积法制备Ni磁性纳米阵列 | 第45页 |
| ·交流电沉积法制备Co磁性纳米阵列 | 第45页 |
| ·样品处理及测量 | 第45-46页 |
| ·实验结果与分析 | 第46-55页 |
| ·Fe纳米线研究 | 第46-51页 |
| ·Ni纳米线研究 | 第51-53页 |
| ·Co纳米线研究 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
| 第五章 Ni-Co纳米线的制备与研究 | 第56-62页 |
| ·Ni-Co纳米线的研究背景 | 第56页 |
| ·Ni-Co纳米线的制备 | 第56-57页 |
| ·实验结果与分析 | 第57-61页 |
| ·X射线衍射分析 | 第57页 |
| ·透射电子显微镜分析 | 第57-58页 |
| ·Ni-Co纳米线成份的确定 | 第58-59页 |
| ·Ni-Co纳米线阵列的宏观磁性研究 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第63页 |
