| 第一章 文献综述 | 第1-29页 |
| 1．1 ESIX过程 | 第13-15页 |
| 1．2 电控离子交换膜 | 第15-16页 |
| 1．3 NiHCF膜的制备 | 第16-18页 |
| 1．4 NiHCF膜的结构 | 第18-20页 |
| 1．5 NiHCF膜的电化学行为 | 第20-22页 |
| 1．6 NiHCF膜的应用 | 第22-23页 |
| 1．7 本论文的研究目的和意义 | 第23-25页 |
| 参考文献 | 第25-29页 |
| 第二章 实验部分 | 第29-34页 |
| 2．1 试剂与仪器 | 第29-30页 |
| 2．2 NiHCF膜的制备方法 | 第30-31页 |
| 2．3 分析测试方法 | 第31-34页 |
| 第三章 电沉积NiHCF薄膜的电控离子交换性能研究 | 第34-54页 |
| 3．1 NiHCF薄膜的制备 | 第35-42页 |
| 3．1．1 电极预处理 | 第35页 |
| 3．1．2 制备NiHCF薄膜 | 第35-37页 |
| 3．1．3 NiHCF薄膜的表面形貌 | 第37-40页 |
| 3．1．4 NiHCF薄膜的EDS分析 | 第40-42页 |
| 3．2 NiHCF薄膜的电化学行为 | 第42-43页 |
| 3．3 NiHCF薄膜置入／置出离子的速度 | 第43-44页 |
| 3．4 NiHCF薄膜的电化学再生 | 第44-46页 |
| 3．5 NiHCF薄膜的寿命 | 第46-47页 |
| 3．6 电沉积制备液组成对薄膜电化学性能的影响 | 第47-49页 |
| 3．7 EDS光谱分析 | 第49-51页 |
| 3．8 小结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第四章 电沉积NiHCF薄膜的离子选择性研究 | 第54-65页 |
| 4．1 实验部分 | 第54-55页 |
| 4．2 Al基体上NiHCF薄膜的离子选择性研究 | 第55-58页 |
| 4．2．1 NiHCF薄膜的循环伏安图 | 第55-56页 |
| 4．2．2 NiHCF薄膜的电化学交流阻抗图谱 | 第56-58页 |
| 4．3 电化学交流阻抗图谱分析 | 第58-60页 |
| 4．4 Pt基体上NiHCF膜的离子选择性研究 | 第60-62页 |
| 4．4．1 NiHCF膜的循环伏安图 | 第60-61页 |
| 4．4．2 NiHCF膜的电化学交流阻抗图谱 | 第61-62页 |
| 4．5 小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 第五章 化学沉积NiHCF薄膜的电控离子交换性能研究 | 第65-83页 |
| 5．1 电极预处理 | 第65-66页 |
| 5．2 化学沉积制备方法 | 第66-68页 |
| 5．3 NiHCF薄膜的筛选 | 第68-73页 |
| 5．3．1 不同配比试剂对薄膜电活性的影响 | 第68-70页 |
| 5．3．2 不同试剂配比对膜中K离子含量的影响 | 第70-73页 |
| 5．4 沉积次数对薄膜电化学性能的影响 | 第73-74页 |
| 5．5 化学沉积NiHCF薄膜的SEM图 | 第74-75页 |
| 5．6 NiHCF薄膜的电化学行为 | 第75-76页 |
| 5．7 NiHCF薄膜的寿命 | 第76-78页 |
| 5．8 NiHCF膜的再生 | 第78-80页 |
| 5．9 小结 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-83页 |
| 结论与建议 | 第83-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第87页 |