| 目录 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| ABSTRACT | 第9-11页 |
| 缩略词说明 | 第11-13页 |
| 插图和附表索引 | 第13-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-32页 |
| 1．1 课题的研究背景及意义 | 第17-19页 |
| 1．2 衍射光学的分析理论和设计方法 | 第19-21页 |
| 1．3 微光学元件的制作方法及国内外发展现状 | 第21-26页 |
| 1．3．1 基于VLSI的套刻技术 | 第22页 |
| 1．3．2 直写技术 | 第22-24页 |
| 1．3．3 灰度掩模技术 | 第24-26页 |
| 1．3．4 掩模的记录材料与复制技术 | 第26页 |
| 1．4 目前取得的研究成果及发展趋势 | 第26-29页 |
| 1．4．1 研究成果 | 第26-28页 |
| 1．4．2 微光学的发展趋势 | 第28-29页 |
| 1．5 论文的研究思路及内容安排 | 第29-31页 |
| 1．5．1 本文的研究思路 | 第29-30页 |
| 1．5．2 本文的内容安排 | 第30-31页 |
| 1．6 本文的研究特色 | 第31-32页 |
| 第二章 衍射光学元件的理论分析方法 | 第32-57页 |
| 2．1 矢量衍射分析 | 第32-41页 |
| 2．1．1 矢量分析方法的对比 | 第32-33页 |
| 2．1．2 时域有限差分法 | 第33-41页 |
| 2．2 标量衍射分析 | 第41-48页 |
| 2．2．1 标量衍射分析方法的对比 | 第42-43页 |
| 2．2．2 光程差积分法原理 | 第43-48页 |
| 2．3 OPDI法在相位补偿等腰闪耀光栅设计中的应用 | 第48-56页 |
| 2．3．1 反面相位补偿型等腰闪耀光栅结构分析 | 第49-50页 |
| 2．3．2 同面相位补偿型等腰闪耀光栅结构设计 | 第50-52页 |
| 2．3．3 仿真优化计算 | 第52-53页 |
| 2．3．4 FDTD严格矢量计算验证 | 第53-56页 |
| 2．4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第三章 彩色等效灰阶扩展掩模制作方法研究 | 第57-76页 |
| 3．1 彩色等效灰度掩模制作原理 | 第57-58页 |
| 3．2 灰阶扩展的必要性分析 | 第58-59页 |
| 3．3 彩色等效灰阶细分扩展掩模制作方法 | 第59-66页 |
| 3．3．1 直接测试选取法 | 第61-64页 |
| 3．3．2 解析优化算法探讨 | 第64-66页 |
| 3．4 彩色等效灰度掩模制作实验 | 第66-70页 |
| 3．4．1 彩色等效灰度掩模制作 | 第66-68页 |
| 3．4．2 三种相似等效灰度掩模方法对比 | 第68-70页 |
| 3．5 彩色等效数字掩模制作方法研究 | 第70-75页 |
| 3．5．1 基于三彩色LCD组合的彩色等效数字掩模制作技术 | 第71-73页 |
| 3．5．2 三彩色LCD组合等效灰阶细分扩展的理论分析 | 第73-74页 |
| 3．5．3 彩色等效灰阶扩展数字掩模制作方法的优点 | 第74-75页 |
| 3．6 本章小结 | 第75-76页 |
| 第四章 基于DMD的数字化灰度掩模制作方法研究 | 第76-112页 |
| 4．1 DMD简介 | 第76-80页 |
| 4．1．1 DMD的发展历史与现状 | 第76-77页 |
| 4．1．2 DMD与LCD的对比 | 第77-78页 |
| 4．1．3 DMD的工作原理 | 第78-80页 |
| 4．2 DMD数字化灰度掩模制作系统设计 | 第80-88页 |
| 4．2．1 系统结构设计 | 第80-83页 |
| 4．2．2 刷新率对掩模制作的影响 | 第83-84页 |
| 4．2．3 占空比因子对掩模制作的影响 | 第84-88页 |
| 4．3 单DMD灰度掩模制作技术的研究 | 第88-107页 |
| 4．3．1 灰度掩模制作方法对比 | 第88-89页 |
| 4．3．2 数字实时掩模制作技术的研究 | 第89-91页 |
| 4．3．3 数字移动掩模制作技术的研究 | 第91-96页 |
| 4．3．4 数字旋转掩模制作技术的研究 | 第96-98页 |
| 4．3．5 数字编码掩模制作技术的研究 | 第98-102页 |
| 4．3．6 数字分形掩模制作技术的研究 | 第102-107页 |
| 4．4 DMD组合等效灰阶细分扩展掩模制作技术的研究 | 第107-111页 |
| 4．4．1 2DMD灰阶细分扩展数字化掩模制作系统的结构设计 | 第108-110页 |
| 4．4．2 DMD组合与LCD组合等效灰阶扩展掩模制作技术的对比 | 第110-111页 |
| 4．5 本章小结 | 第111-112页 |
| 第五章 DMD数字化掩模实验制作与误差特性分析 | 第112-131页 |
| 5．1 计算机辅助设计与控制软件 | 第112-114页 |
| 5．2 DMD数字化灰度掩模制作实验 | 第114-117页 |
| 5．3 DMD灰度掩模制作误差特性分析 | 第117-130页 |
| 5．3．1 照明系统引入的误差 | 第118-123页 |
| 5．3．2 DMD的控制系统误差 | 第123-126页 |
| 5．3．3 曝光及显/定影误差 | 第126-130页 |
| 5．4 本章小结 | 第130-131页 |
| 第六章 MOE在精密测量中的应用 | 第131-148页 |
| 6．1 激光整形器件在半焦斑边缘检出技术中的应用 | 第131-142页 |
| 6．1．1 激光光束整形的方法 | 第131-132页 |
| 6．1．2 高斯分布半焦斑技术 | 第132-134页 |
| 6．1．3 倒T型分布整形应用的理论分析 | 第134-136页 |
| 6．1．4 整形器件的位相设计与加工 | 第136-138页 |
| 6．1．5 实验验证 | 第138-139页 |
| 6．1．6 整形误差影响分析 | 第139-140页 |
| 6．1．7 几种能量分布在边缘定位应用中的对比 | 第140-142页 |
| 6．2 小角度衍射噪声光栅滤波方法研究 | 第142-147页 |
| 6．2．1 闪耀光栅滤波原理 | 第142-145页 |
| 6．2．2 仿真结果分析 | 第145-146页 |
| 6．2．3 加工误差对闪耀光栅滤波的影响 | 第146-147页 |
| 6．3 本章小结 | 第147-148页 |
| 第七章 结论与展望 | 第148-151页 |
| 7．1 全文总结 | 第148-150页 |
| 7．2 研究展望 | 第150-151页 |
| 致谢 | 第151-152页 |
| 参考文献 | 第152-166页 |
| 附录A 同面相位补偿角谱分析 | 第166-171页 |
| A1 等腰闪耀光栅等闪耀角同面相位补偿角谱模型 | 第166-167页 |
| A2 等腰闪耀光栅变闪耀角同面相位补偿角谱模型 | 第167-168页 |
| A3 同面相位补偿的效果分析及扩展应用 | 第168-171页 |
| 附录B 作者在攻读博士学位期间发表的论文和获得的成果 | 第171-172页 |
