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热丝化学气相沉积金刚石膜的研究

摘要第1-8页
Abstract第8-9页
第1章 绪论第9-21页
   ·金刚石的结构第9-10页
   ·化学气相沉积金刚石的基本原理与生长模型第10-13页
     ·化学气相沉积金刚石的基本原理第10页
     ·金刚石的生长模型第10-12页
     ·原子氢的作用第12-13页
   ·化学气相沉积金刚石方法和装置第13-16页
     ·方法概述第13-14页
     ·热丝CVD法原理第14-15页
     ·热丝CVD法沉积金刚石的影响因素第15-16页
   ·CVD金刚石膜性质及应用第16-18页
     ·金刚石的优异性能第16-17页
     ·金刚石在机械领域中的应用第17-18页
   ·CVD金刚石刀具应用中几个关注的问题第18-20页
     ·CVD金刚石薄膜与基体的结合力第18-20页
     ·CVD金刚石膜大面积快速生长第20页
   ·研究背景和研究内容第20-21页
第2章 试验方法第21-25页
   ·试样准备第21页
   ·试验装置第21-22页
   ·工艺条件第22页
   ·性能测试第22-23页
     ·金刚石生长速率的测试第22-23页
     ·金刚石粘结强度的测试第23页
     ·金刚石厚膜热导率的测试第23页
   ·CVD金刚石的表征方法第23-25页
     ·光学显微镜第23页
     ·扫描电镜(SEM)第23页
     ·能谱仪(EDS)第23-24页
     ·X射线衍射第24页
     ·Raman谱第24-25页
第3章 工艺参数对热丝CVD金刚石形核生长的影响第25-30页
   ·碳源浓度对CVD金刚石膜的影响第25-26页
   ·不同衬底对CVD金刚石膜的影响第26-27页
   ·温度对CVD金刚石薄膜的影响第27-28页
   ·工作压力对CVD金刚石薄膜的影响第28-29页
   ·小结第29-30页
第4章 增强热丝化学气相沉积金刚石生长机制的研究第30-39页
   ·引言第30页
   ·直流放电提高CVD金刚石生长速率的研究第30-35页
     ·实验装置第30-31页
     ·金刚石膜沉积工艺第31-32页
     ·金刚石生长速率的表征第32-33页
     ·直流放电下的试验结果第33-34页
     ·分析与讨论第34-35页
   ·射频放电提高CVD金刚石生长速率的研究第35-38页
     ·实验装置第35-36页
     ·金刚石膜沉积工艺第36-37页
     ·金刚石生长速率的表征第37页
     ·射频放电下的试验结果第37-38页
     ·分析与讨论第38页
   ·小结第38-39页
第5章 CVD金刚石薄膜粘附性能的试验研究第39-51页
   ·引言第39-40页
   ·不同衬底对金刚石薄膜粘结性能的影响第40-45页
     ·试样制备第40页
     ·实验方法第40-41页
     ·压痕试验原理第41页
     ·实验结果第41-42页
     ·分析与讨论第42-45页
   ·硬质合金表面脱碳和酸蚀预处理对金刚石薄膜粘结性能的影响第45-50页
     ·试验方法第45-46页
     ·试验结果第46-47页
     ·分析与讨论第47-50页
   ·小结第50-51页
第6章 CVD金刚石厚膜制备技术的研究第51-71页
   ·引言第51页
   ·大功率热丝CVD设备的研制第51-54页
   ·金刚石厚膜制备工艺的探索第54-58页
     ·Mo衬底的预处理第54页
     ·衬底温度第54-56页
     ·气体流量对金刚石生长的影响第56-57页
     ·气体流速对金刚石生长的影响第57-58页
   ·热灯丝对化学气相沉积金刚石的影响第58-66页
     ·研究灯丝的意义第58页
     ·灯丝积碳及其消除第58-59页
     ·钽灯丝表面包钨试验第59-60页
     ·灯丝对金刚石厚膜热导率的影响第60-66页
   ·CVD金刚石厚膜晶格缺陷的X射线衍射分析第66-69页
     ·X射线薄膜附件原理第66-67页
     ·X射线的结果分析与讨论第67-69页
   ·小结第69-71页
结论第71-73页
参考文献第73-79页
附录A: 攻读硕士期间所发表的论文目录第79页

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