摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
第1章 绪论 | 第9-21页 |
·金刚石的结构 | 第9-10页 |
·化学气相沉积金刚石的基本原理与生长模型 | 第10-13页 |
·化学气相沉积金刚石的基本原理 | 第10页 |
·金刚石的生长模型 | 第10-12页 |
·原子氢的作用 | 第12-13页 |
·化学气相沉积金刚石方法和装置 | 第13-16页 |
·方法概述 | 第13-14页 |
·热丝CVD法原理 | 第14-15页 |
·热丝CVD法沉积金刚石的影响因素 | 第15-16页 |
·CVD金刚石膜性质及应用 | 第16-18页 |
·金刚石的优异性能 | 第16-17页 |
·金刚石在机械领域中的应用 | 第17-18页 |
·CVD金刚石刀具应用中几个关注的问题 | 第18-20页 |
·CVD金刚石薄膜与基体的结合力 | 第18-20页 |
·CVD金刚石膜大面积快速生长 | 第20页 |
·研究背景和研究内容 | 第20-21页 |
第2章 试验方法 | 第21-25页 |
·试样准备 | 第21页 |
·试验装置 | 第21-22页 |
·工艺条件 | 第22页 |
·性能测试 | 第22-23页 |
·金刚石生长速率的测试 | 第22-23页 |
·金刚石粘结强度的测试 | 第23页 |
·金刚石厚膜热导率的测试 | 第23页 |
·CVD金刚石的表征方法 | 第23-25页 |
·光学显微镜 | 第23页 |
·扫描电镜(SEM) | 第23页 |
·能谱仪(EDS) | 第23-24页 |
·X射线衍射 | 第24页 |
·Raman谱 | 第24-25页 |
第3章 工艺参数对热丝CVD金刚石形核生长的影响 | 第25-30页 |
·碳源浓度对CVD金刚石膜的影响 | 第25-26页 |
·不同衬底对CVD金刚石膜的影响 | 第26-27页 |
·温度对CVD金刚石薄膜的影响 | 第27-28页 |
·工作压力对CVD金刚石薄膜的影响 | 第28-29页 |
·小结 | 第29-30页 |
第4章 增强热丝化学气相沉积金刚石生长机制的研究 | 第30-39页 |
·引言 | 第30页 |
·直流放电提高CVD金刚石生长速率的研究 | 第30-35页 |
·实验装置 | 第30-31页 |
·金刚石膜沉积工艺 | 第31-32页 |
·金刚石生长速率的表征 | 第32-33页 |
·直流放电下的试验结果 | 第33-34页 |
·分析与讨论 | 第34-35页 |
·射频放电提高CVD金刚石生长速率的研究 | 第35-38页 |
·实验装置 | 第35-36页 |
·金刚石膜沉积工艺 | 第36-37页 |
·金刚石生长速率的表征 | 第37页 |
·射频放电下的试验结果 | 第37-38页 |
·分析与讨论 | 第38页 |
·小结 | 第38-39页 |
第5章 CVD金刚石薄膜粘附性能的试验研究 | 第39-51页 |
·引言 | 第39-40页 |
·不同衬底对金刚石薄膜粘结性能的影响 | 第40-45页 |
·试样制备 | 第40页 |
·实验方法 | 第40-41页 |
·压痕试验原理 | 第41页 |
·实验结果 | 第41-42页 |
·分析与讨论 | 第42-45页 |
·硬质合金表面脱碳和酸蚀预处理对金刚石薄膜粘结性能的影响 | 第45-50页 |
·试验方法 | 第45-46页 |
·试验结果 | 第46-47页 |
·分析与讨论 | 第47-50页 |
·小结 | 第50-51页 |
第6章 CVD金刚石厚膜制备技术的研究 | 第51-71页 |
·引言 | 第51页 |
·大功率热丝CVD设备的研制 | 第51-54页 |
·金刚石厚膜制备工艺的探索 | 第54-58页 |
·Mo衬底的预处理 | 第54页 |
·衬底温度 | 第54-56页 |
·气体流量对金刚石生长的影响 | 第56-57页 |
·气体流速对金刚石生长的影响 | 第57-58页 |
·热灯丝对化学气相沉积金刚石的影响 | 第58-66页 |
·研究灯丝的意义 | 第58页 |
·灯丝积碳及其消除 | 第58-59页 |
·钽灯丝表面包钨试验 | 第59-60页 |
·灯丝对金刚石厚膜热导率的影响 | 第60-66页 |
·CVD金刚石厚膜晶格缺陷的X射线衍射分析 | 第66-69页 |
·X射线薄膜附件原理 | 第66-67页 |
·X射线的结果分析与讨论 | 第67-69页 |
·小结 | 第69-71页 |
结论 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-79页 |
附录A: 攻读硕士期间所发表的论文目录 | 第79页 |