反应烧结制备Si3N4基复合材料
| 目录 | 第1-6页 |
| 1 绪论 | 第6-18页 |
| ·引言 | 第6页 |
| ·氮化硅基复合材料的发展与研究现状 | 第6-8页 |
| ·氮化硅韧化陶瓷 | 第6-8页 |
| ·陶瓷的烧结机理 | 第8-11页 |
| ·固相烧结 | 第8-10页 |
| ·液相烧结 | 第10-11页 |
| ·Si_3N_4基材料的制备方法 | 第11-16页 |
| ·反应烧结 | 第12-13页 |
| ·成型工艺 | 第13页 |
| ·研究现状和应用前景 | 第13-16页 |
| ·本论文的选题背景和研究内容 | 第16-18页 |
| ·选题背景 | 第16-17页 |
| ·本课题的目的和意义 | 第17页 |
| ·本课题要研究的内容 | 第17-18页 |
| 2 试验原理及方法 | 第18-29页 |
| ·材料的制备 | 第18-25页 |
| ·原材料的选择与处理 | 第18-19页 |
| ·复合材料的制备工艺 | 第19-25页 |
| ·材料测试和微观分析方法 | 第25-29页 |
| ·X-Ray分析 | 第25页 |
| ·密度 | 第25-26页 |
| ·孔隙度的测定 | 第26页 |
| ·硬度测试 | 第26-27页 |
| ·三点弯曲强度 | 第27-28页 |
| ·金相分析 | 第28页 |
| ·扫描电镜分析 | 第28-29页 |
| 3 试验的结果与讨论 | 第29-57页 |
| ·Si-SiC系 | 第29-43页 |
| ·材料的密度分析 | 第29-32页 |
| ·烧结材料孔隙度的分析 | 第32-35页 |
| ·烧结材料的表面硬度分析 | 第35-36页 |
| ·烧结材料的三点弯曲强度 | 第36-38页 |
| ·反应机理的讨论 | 第38-42页 |
| 小结 | 第42-43页 |
| ·Si-Al系 | 第43-57页 |
| ·烧结材料的密度分析 | 第43-46页 |
| ·烧结材料孔隙度的分析 | 第46-47页 |
| ·烧结材料的表面硬度分析 | 第47-49页 |
| ·烧结材料的三点弯曲强度 | 第49-53页 |
| ·反应机理及讨论 | 第53-56页 |
| 小结 | 第56-57页 |
| 4 结论 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
