激光直写系统的软硬件设计
| 一 引言 | 第1-14页 |
| ·发展现状 | 第9-12页 |
| ·国外发展现状 | 第9-11页 |
| ·国内发展现状 | 第11-12页 |
| ·发展趋势 | 第12-13页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第13页 |
| ·论文的创新点 | 第13-14页 |
| 二 激光直写系统中的有关器件以及理论基础 | 第14-35页 |
| ·激光直写系统中的相关器件 | 第14-21页 |
| ·激光器 | 第14-15页 |
| ·显微物镜 | 第15页 |
| ·光学透镜 | 第15-16页 |
| ·声光调制器 | 第16-21页 |
| ·高斯光束 | 第21-28页 |
| ·高斯光束的基本性质 | 第21-24页 |
| ·高斯光束的传播 | 第24页 |
| ·高斯光束通过薄透镜的变换 | 第24-25页 |
| ·高斯光束的聚焦 | 第25-26页 |
| ·高斯光束的焦深 | 第26-27页 |
| ·高斯光束的准直 | 第27-28页 |
| ·圆孔的夫琅和费衍射 | 第28-31页 |
| ·平台的结构和控制方式 | 第31-32页 |
| ·电机 | 第31页 |
| ·平台的支撑结构 | 第31页 |
| ·平台的控制和定位 | 第31-32页 |
| ·用激光直写系统光刻的几个常见光学元件 | 第32-35页 |
| ·由菲涅尔波带透镜组成的微透镜阵列 | 第32-33页 |
| ·有槽形的光栅 | 第33-34页 |
| ·其它衍射元件 | 第34页 |
| ·影响衍射光学元件的因素 | 第34-35页 |
| 三 激光直写系统简介 | 第35-42页 |
| ·激光直写系统结构 | 第35-37页 |
| ·准直系统 | 第36-37页 |
| ·电动平台的控制 | 第37页 |
| ·光刻控制以及物镜的选择 | 第37页 |
| ·焦斑及焦深 | 第37-41页 |
| ·焦斑及焦深的计算 | 第37-39页 |
| ·在曲面上光刻圆环 | 第39-41页 |
| ·激光直写系统的主要性能参数 | 第41-42页 |
| 四 激光直写系统的控制软件 | 第42-60页 |
| ·激光光束的通断控制 | 第42页 |
| ·直写文件格式介绍 | 第42-52页 |
| ·*.arr文件 | 第42-43页 |
| ·*.ldw文件 | 第43-52页 |
| ·系统的光刻控制软件界面 | 第52-55页 |
| ·光刻的实现 | 第55-57页 |
| ·光刻文件是*.art文件 | 第55页 |
| ·光刻文件是*.Idw文件 | 第55-57页 |
| ·用干涉扫描的方法实现激光直写 | 第57-60页 |
| 五 实验结果与分析 | 第60-63页 |
| ·记录材料 | 第60页 |
| ·实验结果 | 第60-61页 |
| ·实验分析 | 第61-63页 |
| 六 结论和展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
