| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·课题研究目的及意义 | 第10页 |
| ·镁合金表面改性方法及发展现状 | 第10-17页 |
| ·阳极氧化和微弧氧化处理 | 第11页 |
| ·电镀和化学镀 | 第11-12页 |
| ·激光表面处理 | 第12页 |
| ·化学转化膜 | 第12页 |
| ·气相沉积 | 第12-17页 |
| ·金属氮化物薄膜的性能及应用 | 第17-21页 |
| ·二元金属氮化物薄膜 | 第18-19页 |
| ·三元及多元金属氮化物薄膜 | 第19-20页 |
| ·金属氮化物多层膜 | 第20-21页 |
| ·镁合金上PVD 镀膜的最新进展 | 第21-23页 |
| 第二章 实验材料与实验过程 | 第23-29页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·样品的制备 | 第23-26页 |
| ·电弧离子镀设备 | 第23-25页 |
| ·电镀设备 | 第25页 |
| ·薄膜的制备 | 第25-26页 |
| ·薄膜的显微结构观察 | 第26-27页 |
| ·薄膜的表面及断面形貌观察及成分确定 | 第26-27页 |
| ·膜层晶体结构的确定 | 第27页 |
| ·薄膜的性能 | 第27-29页 |
| ·硬度测试 | 第27-28页 |
| ·腐蚀性能测试 | 第28-29页 |
| 第三章 实验结果与分析 | 第29-53页 |
| ·镁合金衬底上制备的TiN 膜 | 第29-37页 |
| ·不同负偏压下TiN 膜的微观形貌及组织 | 第29-33页 |
| ·不同负偏压下TiN 膜的XRD 谱分析 | 第33-34页 |
| ·不同负偏压下TiN 膜的性能 | 第34-37页 |
| ·镁合金基体上制备的Cr/CrN 多层膜 | 第37-48页 |
| ·镁合金基体上制备的Cr/CrN 多层膜的微观形貌及组织 | 第37-43页 |
| ·镁合金基体上制备的Cr/CrN 多层膜的XRD 谱分析 | 第43-44页 |
| ·镁合金基体上制备的Cr/CrN 多层膜的性能 | 第44-48页 |
| ·镁合金上制备的Ni 薄膜 | 第48-51页 |
| ·Ni 薄膜的表面形貌 | 第48-49页 |
| ·Ni 薄膜的截面形貌 | 第49-50页 |
| ·Ni 薄膜的XRD 谱分析 | 第50页 |
| ·Ni 薄膜的耐腐蚀性能 | 第50-51页 |
| ·镁合金上制备的TiN 膜与Cr/CrN 多层膜耐蚀性比较 | 第51-52页 |
| ·Ni 薄膜与金属氮化物薄膜的耐蚀性比较 | 第52-53页 |
| 第四章 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 在学研究成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
