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中性介质中丝氨酸在铂多晶和单晶电极上的吸附和氧化的CV和原位FTIRS研究

中文摘要第1-13页
Abstract第13-15页
第一章 绪论第15-39页
 §1.1 电化学科学概述第15-16页
 §1.2 金属单晶表面电化学第16-23页
  §1.2.1 金属单晶面上CO、CN~-的吸附和氧化过程研究第18-21页
  §1.2.2 金属单晶修饰表面上的电催化过程研究第21-22页
  §1.2.3 金属单晶电极电化学研究的新发展第22-23页
 §1.3 氨基酸的基本性质和研究进展第23-26页
  §1.3.1 氨基酸的基本性质第23-24页
  §1.3.2 简单氨基酸分子的电化学吸附和氧化研究第24-26页
 §1.4 本论文研究目的与设想第26-28页
 参考文献第28-39页
第二章 实验第39-48页
 §2.1 试剂和溶液第39页
 §2.2 电化学体系第39-41页
  §2.2.1 电极第39-40页
  §2.2.2 电解池第40页
  §2.2.3 电化学系统第40页
  §2.2.4 实验方法第40页
  §2.2.5 数据处理第40-41页
 §2.3 铂单晶电极的制备与表面处理第41-42页
  §2.3.1 铂单晶制备的基本步骤第41页
  §2.3.2 铂单晶电极的表面处理第41-42页
 §2.4 电化学原位FTIR反射光谱实验第42-46页
  §2.4.1 红外电解池第42-43页
  §2.4.2 红外光谱仪器第43-44页
  §2.4.3 原位FTIR反射光谱第44-45页
  §2.4.4 红外透射池第45-46页
 参考文献第46-48页
第三章 铂单晶基础晶面电极的循环伏安特征及结构表征第48-55页
 §3.1 铂单晶电极的表面结构与模型第48-49页
 §3.2 铂单晶电极的表征第49-54页
 本章小结第54页
 参考文献第54-55页
第四章 丝氨酸在铂多晶电极上的解离吸附和氧化过程研第55-81页
 §4.1 丝氨酸透射红外光谱研究第55-56页
 §4.2 中性介质中丝氨酸在Pt多晶上吸附和氧化过程的电化学循环伏安法研究第56-58页
 §4.3 中性介质中丝氨酸在Pt多晶上吸附和氧化过程的 in situ FTIRS研究第58-65页
 §4.4 吸附电位及吸附时间对丝氨酸在Pt多晶上解离吸附和氧化过程的影响第65-68页
 §4.5 丝氨酸在不同pH值溶液中氧化过程的循环伏安研究第68-74页
 §4.6 碱性介质中丝氨酸在Pt多晶上吸附和氧化过程的 in situ FTIRS研究第74-78页
 本章小结第78页
 参考文献第78-81页
第五章 丝氨酸在铂单晶电极上的解离吸附和氧化过程研第81-117页
 §5.1 中性介质中丝氨酸在Pt(111),Pt(100,),Pt(110)基础晶面吸附和氧化过程的循环伏安法研究第81-86页
 §5.2 中性介质中丝氨酸在Pt(111),Pt(100,),Pt(110)基础晶面吸附和氧化过程的 in situ FTIRS研究第86-104页
 §5.3 中性介质中丝氨酸在Pt单晶电极上吸附和氧化过程的晶面结构效应第104-113页
 本章小结第113-114页
 参考文献第114-117页
结论第117-119页
作者攻读硕士期间发表与交流的论文第119-120页
致谢第120页

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