| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-12页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·ZnO 的研究历程和热点 | 第10-12页 |
| 第二章 文献综述 | 第12-31页 |
| ·氧化锌的基本性质 | 第12-15页 |
| ·氧化锌的晶体结构 | 第12-13页 |
| ·氧化锌的物理化学性质 | 第13页 |
| ·氧化锌的能带结构 | 第13-15页 |
| ·氧化锌的形态 | 第15-18页 |
| ·氧化锌薄膜 | 第15-16页 |
| ·氧化锌纳米结构 | 第16-18页 |
| ·氧化锌薄膜的制备方法 | 第18-21页 |
| ·磁控溅射法 | 第19页 |
| ·金属有机化合物气相沉积法（MOCVD） | 第19-20页 |
| ·分子束外延法（MBE） | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶法（Sol-gel） | 第21页 |
| ·氧化锌的缺陷与掺杂 | 第21-25页 |
| ·ZnO 的本征缺陷 | 第21-22页 |
| ·ZnO 的掺杂 | 第22-25页 |
| ·氧化锌的应用 | 第25-29页 |
| ·光电性能 | 第25-27页 |
| ·压电性能 | 第27页 |
| ·磁学性能 | 第27-29页 |
| ·研究构想 | 第29-31页 |
| 第三章 实验部分 | 第31-44页 |
| ·直流反应溅射制膜方法简介 | 第31-36页 |
| ·直流反应溅射的原理 | 第31-34页 |
| ·实验设备 | 第34-36页 |
| ·实验原料及仪器 | 第36-37页 |
| ·实验原料 | 第36页 |
| ·实验仪器 | 第36-37页 |
| ·实验步骤及参数设置 | 第37-39页 |
| ·实验步骤 | 第37-38页 |
| ·实验参数设置 | 第38-39页 |
| ·结构表征与性能测试 | 第39-44页 |
| ·X 射线衍射（X-ray Diffraction） | 第39-41页 |
| ·拉曼光谱（Raman Spectrometer） | 第41-42页 |
| ·光致发光光谱（photoluminescence） | 第42-44页 |
| 第四章 工艺参数对氧化锌薄膜的影响 | 第44-69页 |
| ·引言 | 第44-47页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第44-45页 |
| ·薄膜的择优定向生长 | 第45-47页 |
| ·基片种类对薄膜性能的影响 | 第47-53页 |
| ·SEM 表面形貌研究 | 第48页 |
| ·XRD 晶体结构的研究 | 第48-50页 |
| ·光谱研究 | 第50-52页 |
| ·讨论 | 第52-53页 |
| ·衬底温度对薄膜性能的影响 | 第53-57页 |
| ·SEM 表面形貌研究 | 第53-54页 |
| ·XRD 晶体结构研究 | 第54-56页 |
| ·讨论 | 第56-57页 |
| ·溅射电流对薄膜性能的影响 | 第57-60页 |
| ·SEM 表面形貌研究 | 第57-58页 |
| ·XRD 晶体结构研究 | 第58-60页 |
| ·讨论 | 第60页 |
| ·退火温度对薄膜性能的影响 | 第60-67页 |
| ·SEM 表面形貌研究 | 第61-62页 |
| ·XRD 晶体结构研究 | 第62-65页 |
| ·讨论 | 第65-67页 |
| ·制备高质量氧化锌薄膜的最优化工艺参数 | 第67-69页 |
| 第五章 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 附录 | 第75-78页 |
| 发表论文与参加科研情况说明 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
