| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第1章 综述 | 第9-24页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·光催化反应机理 | 第9-11页 |
| ·影响二氧化钛光催化效率的因素 | 第11-13页 |
| ·TiO_2晶体活性对光催化效率的影响 | 第11页 |
| ·TiO_2晶体结构对光催化效率的影响 | 第11-12页 |
| ·有机污染物浓度对TiO_2光催化效率的影响 | 第12-13页 |
| ·提高TiO_2光催化活性的途径 | 第13-16页 |
| ·金属离子的掺杂 | 第13-14页 |
| ·非金属离子掺杂 | 第14-15页 |
| ·金属离子与非金属离子共掺杂 | 第15页 |
| ·表面光敏化 | 第15页 |
| ·复合半导体 | 第15-16页 |
| ·表面酸化 | 第16页 |
| ·TiO_2薄膜的制备方法 | 第16-20页 |
| ·溶胶-凝胶法(So-gel) | 第17-18页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第18-19页 |
| ·溅射法 | 第19页 |
| ·液相沉积法 | 第19页 |
| ·胶黏剂涂抹法 | 第19-20页 |
| ·机械压膜法 | 第20页 |
| ·电沉积法 | 第20页 |
| ·TiO_2的固载 | 第20-22页 |
| ·玻璃类 | 第21页 |
| ·吸附剂类 | 第21-22页 |
| ·陶瓷类 | 第22页 |
| ·本课题研究的目的和主要内容 | 第22-24页 |
| ·研究目的和意义 | 第22-23页 |
| ·研究的主要内容 | 第23-24页 |
| 第2章 TiO_2薄膜和镧掺杂的TiO_2薄膜的制备 | 第24-34页 |
| ·本课题的工艺流程 | 第24-25页 |
| ·TiO_2薄膜的制备工艺分析 | 第25-30页 |
| ·影响溶胶质量因素研究 | 第25-29页 |
| ·薄膜结合强度的影响因素 | 第29页 |
| ·其它因素 | 第29页 |
| ·结论 | 第29-30页 |
| ·实验部分 | 第30-34页 |
| ·实验仪器设备及实验试剂 | 第30-31页 |
| ·薄膜的制备 | 第31-34页 |
| 第3章 光催化剂的性能测试与表征 | 第34-40页 |
| ·X射线衍射结构分析(XRD) | 第34-37页 |
| ·薄膜SEM表征分析 | 第37-40页 |
| 第4章 镧掺杂的TiO_2薄膜光催化性能研究 | 第40-48页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·实验部分 | 第40-41页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第40-41页 |
| ·分析方法 | 第41页 |
| ·反应条件对甲基橙降解率的影响 | 第41-43页 |
| ·甲基橙浓度的影响 | 第41-42页 |
| ·甲基橙pH的影响 | 第42-43页 |
| ·光催化时间的影响 | 第43页 |
| ·工艺条件对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第43-47页 |
| ·镧的掺杂率对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第44-45页 |
| ·热处理温度对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第45页 |
| ·焙烧时间对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第45-46页 |
| ·涂膜层数对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第46-47页 |
| ·结论 | 第47-48页 |
| 第5章 结论与展望 | 第48-50页 |
| ·结论 | 第48页 |
| ·展望 | 第48-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第56页 |