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AlN陶瓷低温烧结制备与性能研究

摘要第1-9页
ABSTRACT第9-11页
第一章 绪论第11-27页
   ·引言第11页
   ·AlN 陶瓷的基本特性第11-12页
   ·AlN 陶瓷的导热机理及影响因素第12-15页
     ·AlN 陶瓷的导热机理第12-13页
     ·AlN 陶瓷热导率的影响因素第13-15页
   ·AlN 陶瓷的应用第15-18页
     ·基板材料和电子封装材料第15-17页
     ·耐热冲和热交换材料第17页
     ·耐热材料第17页
     ·复合材料中的应用第17页
     ·其他应用第17-18页
   ·AlN 陶瓷制备的研究现状第18-25页
     ·AlN 粉体的制备第18页
     ·AlN 坯体的成型工艺第18-20页
     ·AlN 陶瓷的烧结工艺第20-22页
     ·烧结助剂的研究现状第22-25页
   ·AlN 陶瓷研究中存在的问题第25-27页
     ·AlN 烧结过程的氧化现象第25页
     ·AlN 氮化铝的低温烧结第25-27页
第二章 实验过程及性能表征第27-34页
   ·实验原料及设备第27-28页
     ·实验原料第27页
     ·实验仪器第27-28页
   ·实验目的、内容及方案第28-29页
     ·实验目的第28页
     ·实验内容第28页
     ·实验方案第28-29页
   ·AlN 陶瓷的制备第29-30页
   ·结果表征第30-34页
     ·相对密度测试第30-31页
     ·显微硬度测试第31页
     ·X 射线衍射分析第31页
     ·断面形貌分析第31-32页
     ·介电性能分析第32页
     ·热导率测试第32-34页
第三章 烧结气氛对 AlN 陶瓷制备的影响第34-41页
   ·引言第34页
   ·AlN 陶瓷制备过程中的氧化机理第34-35页
   ·烧结气氛控制第35-36页
     ·AlN 陶瓷在制备过程中氧化的影响因素第35-36页
     ·实验方案的确定第36页
   ·结果分析第36-40页
     ·在空气气氛下的烧结实验第36-37页
     ·不同气氛条件下烧结产物的XRD 分析第37页
     ·不同埋粉条件下烧结产物的XRD 分析第37-39页
     ·不同温度下制得AlN 陶瓷的XRD 分析第39-40页
     ·N_2 纯度对AlN 陶瓷烧结过程氧化现象的影响第40页
   ·本章小结第40-41页
第四章 AlN 陶瓷的低温烧结制备第41-59页
   ·引言第41页
   ·烧结助剂的选择第41-45页
     ·烧结助剂选择的基本原则与方法第41-42页
     ·热力学分析第42-43页
     ·相图分析第43-44页
     ·烧结助剂的确定第44-45页
   ·AlN 陶瓷烧结工艺的确定第45-49页
     ·烧结助剂对AlN 陶瓷致密性的影响第45-46页
     ·烧结温度对AlN 陶瓷致密性的影响第46-47页
     ·保温时间对AlN 陶瓷致密性的影响第47-48页
     ·AlN 粉体粒度对陶瓷致密性的影响第48-49页
   ·烧结体的物相分析第49-51页
   ·烧结体的断面形貌分析第51-54页
   ·烧结体的介电性能分析第54-57页
   ·烧结体的热导率分析第57页
   ·烧结体的硬度分析第57-58页
   ·本章小结第58-59页
第五章 添加碳纳米管对 AlN 陶瓷的影响第59-68页
   ·关于碳纳米管第59-61页
     ·什么是碳纳米管第59页
     ·碳纳米管的独特性质第59-60页
     ·碳纳米管在陶瓷领域的应用第60-61页
   ·实验方案第61-62页
   ·结果分析第62-67页
     ·相对密度分析第62-63页
     ·物相分析第63-64页
     ·断面形貌分析第64-65页
     ·介电性能分析第65-66页
     ·热导率分析第66-67页
     ·硬度分析第67页
   ·本章小结第67-68页
第六章 结论与创新点第68-69页
   ·主要结论第68页
   ·主要创新点第68-69页
参考文献第69-76页
致谢第76-77页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第77页

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