摘要 | 第1-9页 |
ABSTRACT | 第9-11页 |
第一章 绪论 | 第11-27页 |
·引言 | 第11页 |
·AlN 陶瓷的基本特性 | 第11-12页 |
·AlN 陶瓷的导热机理及影响因素 | 第12-15页 |
·AlN 陶瓷的导热机理 | 第12-13页 |
·AlN 陶瓷热导率的影响因素 | 第13-15页 |
·AlN 陶瓷的应用 | 第15-18页 |
·基板材料和电子封装材料 | 第15-17页 |
·耐热冲和热交换材料 | 第17页 |
·耐热材料 | 第17页 |
·复合材料中的应用 | 第17页 |
·其他应用 | 第17-18页 |
·AlN 陶瓷制备的研究现状 | 第18-25页 |
·AlN 粉体的制备 | 第18页 |
·AlN 坯体的成型工艺 | 第18-20页 |
·AlN 陶瓷的烧结工艺 | 第20-22页 |
·烧结助剂的研究现状 | 第22-25页 |
·AlN 陶瓷研究中存在的问题 | 第25-27页 |
·AlN 烧结过程的氧化现象 | 第25页 |
·AlN 氮化铝的低温烧结 | 第25-27页 |
第二章 实验过程及性能表征 | 第27-34页 |
·实验原料及设备 | 第27-28页 |
·实验原料 | 第27页 |
·实验仪器 | 第27-28页 |
·实验目的、内容及方案 | 第28-29页 |
·实验目的 | 第28页 |
·实验内容 | 第28页 |
·实验方案 | 第28-29页 |
·AlN 陶瓷的制备 | 第29-30页 |
·结果表征 | 第30-34页 |
·相对密度测试 | 第30-31页 |
·显微硬度测试 | 第31页 |
·X 射线衍射分析 | 第31页 |
·断面形貌分析 | 第31-32页 |
·介电性能分析 | 第32页 |
·热导率测试 | 第32-34页 |
第三章 烧结气氛对 AlN 陶瓷制备的影响 | 第34-41页 |
·引言 | 第34页 |
·AlN 陶瓷制备过程中的氧化机理 | 第34-35页 |
·烧结气氛控制 | 第35-36页 |
·AlN 陶瓷在制备过程中氧化的影响因素 | 第35-36页 |
·实验方案的确定 | 第36页 |
·结果分析 | 第36-40页 |
·在空气气氛下的烧结实验 | 第36-37页 |
·不同气氛条件下烧结产物的XRD 分析 | 第37页 |
·不同埋粉条件下烧结产物的XRD 分析 | 第37-39页 |
·不同温度下制得AlN 陶瓷的XRD 分析 | 第39-40页 |
·N_2 纯度对AlN 陶瓷烧结过程氧化现象的影响 | 第40页 |
·本章小结 | 第40-41页 |
第四章 AlN 陶瓷的低温烧结制备 | 第41-59页 |
·引言 | 第41页 |
·烧结助剂的选择 | 第41-45页 |
·烧结助剂选择的基本原则与方法 | 第41-42页 |
·热力学分析 | 第42-43页 |
·相图分析 | 第43-44页 |
·烧结助剂的确定 | 第44-45页 |
·AlN 陶瓷烧结工艺的确定 | 第45-49页 |
·烧结助剂对AlN 陶瓷致密性的影响 | 第45-46页 |
·烧结温度对AlN 陶瓷致密性的影响 | 第46-47页 |
·保温时间对AlN 陶瓷致密性的影响 | 第47-48页 |
·AlN 粉体粒度对陶瓷致密性的影响 | 第48-49页 |
·烧结体的物相分析 | 第49-51页 |
·烧结体的断面形貌分析 | 第51-54页 |
·烧结体的介电性能分析 | 第54-57页 |
·烧结体的热导率分析 | 第57页 |
·烧结体的硬度分析 | 第57-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
第五章 添加碳纳米管对 AlN 陶瓷的影响 | 第59-68页 |
·关于碳纳米管 | 第59-61页 |
·什么是碳纳米管 | 第59页 |
·碳纳米管的独特性质 | 第59-60页 |
·碳纳米管在陶瓷领域的应用 | 第60-61页 |
·实验方案 | 第61-62页 |
·结果分析 | 第62-67页 |
·相对密度分析 | 第62-63页 |
·物相分析 | 第63-64页 |
·断面形貌分析 | 第64-65页 |
·介电性能分析 | 第65-66页 |
·热导率分析 | 第66-67页 |
·硬度分析 | 第67页 |
·本章小结 | 第67-68页 |
第六章 结论与创新点 | 第68-69页 |
·主要结论 | 第68页 |
·主要创新点 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-76页 |
致谢 | 第76-77页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第77页 |