摘要 | 第1-8页 |
AbSTRACT | 第8-27页 |
第一章 绪论 | 第27-59页 |
·表面微图案化技术概述 | 第27-36页 |
·浸笔纳米印刷术 | 第28-30页 |
·硬刻印技术 | 第30-31页 |
·软刻印技术 | 第31-35页 |
·界面组装 | 第35-36页 |
·其他表面微图案化技术 | 第36页 |
·喷墨打印技术概述 | 第36-39页 |
·喷墨打印技术在微电子领域的应用 | 第37-38页 |
·喷墨打印技术在陶瓷领域的应用 | 第38-39页 |
·喷墨打印技术在生物工程和生物分析领域的应用 | 第39页 |
·光掩模制备技术概述 | 第39-45页 |
·纳米球掩模 | 第41-42页 |
·嵌段共聚物掩模 | 第42-43页 |
·软刻印方法 | 第43页 |
·打印掩模 | 第43-45页 |
·光掩模在光反应中的应用 | 第45-47页 |
·本研究工作的主要学术思想和研究内容 | 第47-48页 |
·文章整体框架示意图 | 第48-50页 |
参考文献 | 第50-59页 |
第二章 柔性光掩模制备 | 第59-83页 |
·引言 | 第59-61页 |
·实验部分 | 第61-64页 |
·材料和试剂 | 第62页 |
·BOPP/PET羟基化处理 | 第62-63页 |
·羟基化BOPP/PET膜溶胶-凝胶处理 | 第63页 |
·打印设计的图案 | 第63页 |
·表征方法 | 第63-64页 |
·结果与讨论 | 第64-79页 |
·掩模基材的选择 | 第64-65页 |
·BOPP/PET薄膜表面亲水/疏水改性 | 第65页 |
·旋涂及烘烤SiO_x条件控制 | 第65-67页 |
·激光打印 | 第67-68页 |
·喷墨打印法 | 第68-71页 |
·BOPP-OH/SiO_x表面结构分析 | 第71-73页 |
·柔性紫外-可见光掩模表征 | 第73-77页 |
·柔性紫外-可见光掩模特点 | 第77-79页 |
·小结 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-83页 |
第三章 柔性紫外-可见光掩模的应用—微图案化研究 | 第83-101页 |
·引言 | 第83-84页 |
·实验部分 | 第84-87页 |
·材料和试剂 | 第84-85页 |
·图案化硫酸根改性聚合物基表面 | 第85页 |
·PANI微图案化沉积 | 第85页 |
·氧化锌微图案化沉积 | 第85页 |
·微图案化光接枝功能性聚合物 | 第85-86页 |
·一步法接枝聚合 | 第86页 |
·二步法接枝聚合 | 第86页 |
·曲面上微图案化光接枝功能性聚合物 | 第86-87页 |
·表征方法 | 第87页 |
·结果与讨论 | 第87-95页 |
·CPO反应结合沉积反应沉积微图案 | 第87-91页 |
·沉积导电高分子聚苯胺 | 第87-90页 |
·沉积半导体材料氧化锌 | 第90-91页 |
·光接枝聚丙烯酸形成微图案化 | 第91-94页 |
·在曲面表面光接枝PAA | 第94-95页 |
·小结 | 第95-96页 |
参考文献 | 第96-101页 |
第四章 可见光引发胺化PET膜表面接枝聚合及其微图案化研究 | 第101-117页 |
·引言 | 第101-102页 |
·实验部分 | 第102-104页 |
·材料和试剂 | 第102页 |
·一步法光接枝AA聚合反应 | 第102-103页 |
·两步法光接枝AA聚合反应 | 第103页 |
·聚酯膜表面胺解反应 | 第103页 |
·表面化学健引入CQ基团 | 第103-104页 |
·光接枝反应 | 第104页 |
·表征 | 第104页 |
·结果与讨论 | 第104-113页 |
·CQ光吸收特性 | 第104-105页 |
·无助引发剂条件下CQ引发体系 | 第105-108页 |
·紫外光源辐照CQ引发表面接枝反应 | 第105-106页 |
·可见光源辐照CQ引发表面接枝反应 | 第106-107页 |
·CQ可能的引发机理 | 第107-108页 |
·有助引发剂条件下CQ引发体系 | 第108-111页 |
·胺化的PET膜 | 第108-109页 |
·可见光辐照预涂有CQ的胺化PET表面 | 第109-110页 |
·胺化的PET表面化学健固定的CQ可见光膜再引发接枝聚合 | 第110-111页 |
·不同反应条件对表面接枝率的影响 | 第111-113页 |
·引发剂浓度对表面接枝率的影响 | 第111页 |
·单体浓度对表面接枝率的影响 | 第111-112页 |
·可见光强度对表面接枝率的影响 | 第112-113页 |
·小结 | 第113-114页 |
参考文献 | 第114-117页 |
第五章 波长可控光掩模设计及双接枝微图案化表面制备 | 第117-139页 |
·引言 | 第117-119页 |
·实验部分 | 第119-121页 |
·材料和试剂 | 第119页 |
·波长可控光掩模制备 | 第119-120页 |
·PET薄膜表面胺基化反应 | 第120页 |
·在胺基化的PET薄膜表面固定双引发剂微图案 | 第120页 |
·双图案引发剂再引发表面双接枝图案化 | 第120-121页 |
·表征 | 第121页 |
·结果与讨论 | 第121-134页 |
·墨水及光引发剂的紫外-可见光吸收特性 | 第121-125页 |
·墨水的光学特性 | 第121-123页 |
·不同光引发剂的光学特性 | 第123-125页 |
·波长可控光掩模表征 | 第125-126页 |
·喷墨打印光掩模荧光照片 | 第125页 |
·掩模表面表征 | 第125-126页 |
·ITX两步法光接枝PAA | 第126-128页 |
·CQ引发胺化的PET薄膜两步法光接枝 | 第128-129页 |
·表面固定双引发剂ITX/CQ微图案 | 第129-131页 |
·表面双接枝微图案制备 | 第131-134页 |
·有机基材表面双接枝微图案的特点 | 第134页 |
·小结 | 第134-136页 |
参考文献 | 第136-139页 |
第六章 梯度光掩模设计及梯度聚合物表面制备 | 第139-164页 |
·引言 | 第139-141页 |
·实验部分 | 第141-143页 |
·材料和试剂 | 第141-142页 |
·梯度光掩模制备 | 第142页 |
·CPO反应引入硫酸根基团 | 第142页 |
·光接枝AA聚合 | 第142页 |
·受限光沉淀接枝AM聚合 | 第142-143页 |
·表征 | 第143页 |
·结果与讨论 | 第143-157页 |
·梯度光掩模的制备及表征 | 第143-146页 |
·不同梯度聚合物表面制备 | 第146-154页 |
·CPO反应制备表面能梯度表面 | 第147-148页 |
·光接枝制备接枝层厚度梯度表面 | 第148-149页 |
·受限光沉淀接枝制备接枝密度梯度表面 | 第149-154页 |
·不同反应条件对表面接枝率的影响 | 第154-157页 |
·引发剂浓度的影响 | 第154-155页 |
·单体浓度的影响 | 第155-156页 |
·最高光强的影响 | 第156-157页 |
·辐射时间的影响 | 第157页 |
·小结 | 第157-159页 |
参考文献 | 第159-164页 |
第七章 结论 | 第164-166页 |
致谢 | 第166-167页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第167-168页 |
作者简介 | 第168-169页 |
导师简介 | 第169-170页 |
北京化工大学博士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第170-171页 |