非晶硅薄膜太阳能电池材料PECVD关键技术研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 致谢 | 第8-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-17页 |
| ·引言 | 第14-15页 |
| ·本课题来源、目的及研究的主要内容 | 第15-16页 |
| ·国内外的研究现状 | 第16页 |
| ·本课题的意义 | 第16-17页 |
| 第二章 非晶硅薄膜电池的原理及制备流程 | 第17-24页 |
| ·非晶硅太阳能电池及其薄膜材料结构 | 第17-19页 |
| ·非晶硅薄膜材料结构 | 第17页 |
| ·非晶硅太阳能电池结构 | 第17-19页 |
| ·非晶硅太阳能电池工作原理 | 第19-21页 |
| ·太阳能电池能量转换过程 | 第19页 |
| ·非晶硅太阳能电池特性 | 第19-21页 |
| ·非晶硅太阳能电池的制备流程 | 第21-23页 |
| ·小结 | 第23-24页 |
| 第三章 等离子体特性及PECVD 设备系统概述 | 第24-32页 |
| ·等离子体的性质及特征量 | 第24-26页 |
| ·射频 PECVD 工作原理 | 第26-29页 |
| ·射频电容耦合产生等离子体 | 第26-28页 |
| ·PECVD 成膜机理 | 第28-29页 |
| ·PECVD 系统结构 | 第29-30页 |
| ·小结 | 第30-32页 |
| 第四章 PECVD 平板电极电场的模拟计算 | 第32-45页 |
| ·电极电场模拟求解方法 | 第32-33页 |
| ·PECVD 直流辉光放电电场分布 | 第33-38页 |
| ·气体放电伏安特性曲线 | 第33-34页 |
| ·帕邢定律和着火电压的确定 | 第34-36页 |
| ·平板电极间静电场分布 | 第36-38页 |
| ·PECVD 射频辉光放电电场分布 | 第38-44页 |
| ·电源接入点对平板电极电场影响 | 第39-41页 |
| ·电源频率对平板电极电场影响 | 第41页 |
| ·平板电极尺寸对电场影响 | 第41-42页 |
| ·平板电极外形结构对电场影响 | 第42-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 第五章 PECVD 反应室内部传热及流态分析 | 第45-61页 |
| ·PECVD 反应室温度场的分析 | 第45-50页 |
| ·传热及模型的建立 | 第45-48页 |
| ·加热方式对温度场分布的影响 | 第48-49页 |
| ·进气方式对温度场分布影响 | 第49-50页 |
| ·PECVD 反应室气流分布的分析 | 第50-60页 |
| ·气流分布模型的建立 | 第50-51页 |
| ·“极板喷淋式”进气方式气体流态分析 | 第51-56页 |
| ·进气流量对基片表面压力及气体流速的影响 | 第53-54页 |
| ·极板间距对基片表面压力及气体流速的影响 | 第54-56页 |
| ·“穿堂风”式进气方式气体流态分析 | 第56-60页 |
| ·进气流量对基片表面压力及气体流速的影响 | 第57-59页 |
| ·极板间距对基片表面压力及气体流速的影响 | 第59-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 第六章 辅助PECVD 磁场模拟计算与分析 | 第61-70页 |
| ·磁场辅助 PECVD 原理 | 第61-62页 |
| ·均匀辅助磁场结构设计及数值分析 | 第62-66页 |
| ·确定 PECVD 辅助磁场强度 | 第62-63页 |
| ·PECVD 辅助磁场优化及模拟分析 | 第63-66页 |
| ·均匀辅助磁场系统结构参数确定 | 第66页 |
| ·磁镜场在PECVD 中的应用及磁场分析 | 第66-69页 |
| ·磁镜线圈间距对磁镜比的影响 | 第67-68页 |
| ·线圈通过电流对磁镜比的影响 | 第68-69页 |
| ·小结 | 第69-70页 |
| 第七章 结论与展望 | 第70-72页 |
| ·结论 | 第70页 |
| ·展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第76-77页 |
