| 目录 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 插图索引 | 第11-13页 |
| 附表索引 | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-23页 |
| ·引言 | 第14页 |
| ·微弧氧化技术概述 | 第14-16页 |
| ·微弧氧化技术的基本原理 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化技术的特点与应用 | 第15-16页 |
| ·微弧氧化技术存在的问题 | 第16页 |
| ·电参数对微弧氧化膜层性能的影响 | 第16-21页 |
| ·电压及电流密度对微弧氧化膜性能的影响 | 第16-19页 |
| ·频率对微弧氧化膜性能的影响 | 第19-20页 |
| ·占空比对微弧氧化膜性能的影响 | 第20-21页 |
| ·选题的目的、研究内容和课题的创新点 | 第21-23页 |
| 第2章 实验方法 | 第23-28页 |
| ·实验材料、微弧氧化实验设备及试样制备 | 第23-27页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·微弧氧化实验设备 | 第23-25页 |
| ·试样的制备 | 第25-26页 |
| ·实验的技术路线 | 第26-27页 |
| ·微弧氧化膜层性能检测设备及方法 | 第27-28页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜膜厚的检测 | 第27页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜表面孔隙率、表面孔径的测试 | 第27页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜层的形貌观察 | 第27页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的耐蚀性检测 | 第27-28页 |
| 第3章 基于三种火花形态研究微弧氧化膜层的微观结构和耐蚀性 | 第28-45页 |
| ·实验方案设计 | 第28页 |
| ·小弧对微弧氧化膜层微观结构和耐蚀性的影响 | 第28-33页 |
| ·小弧时电压和电流随氧化时间的变化规律 | 第28-30页 |
| ·小弧对微弧氧化膜层厚度和耐蚀性的影响 | 第30页 |
| ·小弧对微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第30-32页 |
| ·小弧对微弧氧化膜层表面孔隙率和表面孔径的影响 | 第32-33页 |
| ·大弧对微弧氧化膜层微观结构和耐蚀性的影响 | 第33-38页 |
| ·大弧时电压和电流随氧化时间的变化规律 | 第33-34页 |
| ·大弧对微弧氧化膜层厚度和耐蚀性的影响 | 第34-35页 |
| ·大弧对微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第35-37页 |
| ·大弧对微弧氧化膜层表面孔隙率和表面孔径的影响 | 第37-38页 |
| ·大大弧对微弧氧化膜层微观结构和耐蚀性的影响 | 第38-42页 |
| ·大大弧时电压和电流随氧化时间的变化规律 | 第38-39页 |
| ·大大弧对微弧氧化膜层厚度和耐蚀性的影响 | 第39-40页 |
| ·大大弧对微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·大大弧对微弧氧化膜层表面孔隙率和表面孔径的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-45页 |
| 第4章 基于电参数研究微弧氧化膜层的微观结构和耐蚀性 | 第45-72页 |
| ·实验方案设计 | 第45-46页 |
| ·电压对微弧氧化膜层微观结构和耐蚀性的影响 | 第46-50页 |
| ·恒压时电流随氧化时间的变化规律 | 第46-47页 |
| ·电压对微弧氧化膜层厚度和耐蚀性的影响 | 第47-48页 |
| ·电压对微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第48-49页 |
| ·电压对微弧氧化膜层表面孔隙率和表面孔径的影响 | 第49-50页 |
| ·频率对微弧氧化膜层微观结构及耐蚀性的影响 | 第50-55页 |
| ·改变频率时电压和电流随氧化时间的变化规律 | 第50-51页 |
| ·频率对微弧氧化膜层厚度和耐蚀性的影响 | 第51-52页 |
| ·频率对微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第52-54页 |
| ·频率对微弧氧化表面孔隙率和表面孔径的影响 | 第54-55页 |
| ·占空比对微弧氧化膜层结构及耐蚀性的影响 | 第55-60页 |
| ·改变占空比时电压和电流随氧化时间的变化规律 | 第55-56页 |
| ·占空比对微弧氧化膜层厚度和耐蚀性的影响 | 第56页 |
| ·占空比对微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第56-58页 |
| ·占空比对微弧氧化表面孔隙率和表面孔径的影响 | 第58-60页 |
| ·恒压时频率和占空比变化对微弧氧化膜层性能的影响 | 第60-66页 |
| ·恒压时频率和占空比变化对膜层生长的影响 | 第60-62页 |
| ·恒压时频率和占空比变化对膜层孔隙率和孔径的影响 | 第62-64页 |
| ·比较不同测试方法测得的膜层厚度 | 第64-66页 |
| ·不同加载方式时频率和占空比变化对膜层性能的影响 | 第66-70页 |
| ·频率变化对膜层性能的影响 | 第66-68页 |
| ·电压和电流随氧化时间的变化规律 | 第66-67页 |
| ·频率变化对膜层厚度和耐蚀性的影响 | 第67-68页 |
| ·占空比变化对膜层性能的影响 | 第68-70页 |
| ·电压和电流随氧化时间的变化规律 | 第68-69页 |
| ·占空比变化对膜层厚度和耐蚀性的影响 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第5章 微弧氧化过程输入总能量对膜层的影响 | 第72-81页 |
| ·实验方案的设计 | 第72页 |
| ·微弧氧化过程中输入总能量的计算 | 第72-80页 |
| ·输入总能量的计算公式推导 | 第72-74页 |
| ·输入总能量与膜层厚度和耐蚀性之间的关系 | 第74-78页 |
| ·恒压时输入总能量对膜层的影响 | 第74页 |
| ·不同加载方式时输入总能量对膜层的影响 | 第74-76页 |
| ·火花形态不同时输入总能量对膜层的影响 | 第76-78页 |
| ·各工艺条件膜厚对应的所需能量 | 第78-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 结论 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 附录 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第88页 |