| 中文摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-8页 |
| 第1章 综述 | 第8-19页 |
| ·共轭聚合物材料概述 | 第8页 |
| ·荧光共轭聚合物的信号放大机理 | 第8-11页 |
| ·荧光化学传感器检测硝基化合物的研究进展 | 第11-17页 |
| ·常见的几种硝基爆炸剂 | 第12-13页 |
| ·硝基爆炸物传感器检测原理 | 第13-14页 |
| ·典型的检测硝基化合物的共轭聚合物 | 第14-17页 |
| ·用于纳米材料制备的激光方法 | 第17-18页 |
| ·脉冲激光沉积法的原理及特点 | 第17页 |
| ·垂直脉冲激光法 | 第17-18页 |
| ·课题研究内容、目的和意义 | 第18页 |
| ·课题来源 | 第18-19页 |
| 第2章 实验部分 | 第19-25页 |
| ·主要仪器和试剂 | 第19-20页 |
| ·主要仪器 | 第19页 |
| ·主要试剂 | 第19-20页 |
| ·实验装置及改性PPV薄膜的制备 | 第20-22页 |
| ·YAG激光打标机的构成及其工作原理 | 第20-21页 |
| ·样品的预处理 | 第21页 |
| ·激光刻蚀PPV薄膜的制备 | 第21页 |
| ·VPLD方法制备Si纳米薄膜 | 第21-22页 |
| ·LIFT方法制备纳米PPV薄膜 | 第22页 |
| ·激光改性PPV薄膜及纳米PPV薄膜对淬灭剂的荧光响应 | 第22-23页 |
| ·改性PPV薄膜和苦味酸之间的荧光响应 | 第22页 |
| ·改性PPV薄膜和TNT之间的荧光响应 | 第22-23页 |
| ·激光改性PPV薄膜以及纳米PPV薄膜的表征 | 第23页 |
| ·傅里叶红外光谱(FTIR) | 第23页 |
| ·扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM) | 第23页 |
| ·光致发光光谱(Photoluminescence Spectrum,PL) | 第23页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第23页 |
| ·紫外可见吸收光谱(UV-Vis) | 第23页 |
| ·本章小结 | 第23-25页 |
| 第3章 结果与讨论 | 第25-53页 |
| ·激光对PPV薄膜的刻蚀 | 第25-26页 |
| ·VPLD方法刻蚀PPV薄膜的表征 | 第26-38页 |
| ·VPLD方法刻蚀PPV薄膜的SEM表征 | 第26-28页 |
| ·VPLD方法刻蚀PPV薄膜的红外光谱表征 | 第28-29页 |
| ·VPLD方法刻蚀PPV薄膜的荧光光谱表征 | 第29-31页 |
| ·VPLD方法刻蚀PPV薄膜的紫外光谱表征 | 第31-33页 |
| ·VPLD方法刻蚀PPV薄膜的XPS表征 | 第33-38页 |
| ·垂直激光脉冲转移法制备的纳米PPV薄膜 | 第38-39页 |
| ·LIFT方法制备纳米PPV薄膜的表征 | 第39-43页 |
| ·LIFT方法制备的纳米PPV薄膜的SEM表征 | 第39页 |
| ·LIFT方法制备的纳米PPV薄膜的红外光谱表征 | 第39-40页 |
| ·LIFT方法制备的纳米PPV薄膜的荧光光谱表征 | 第40-41页 |
| ·LIFT方法制备的纳米PPV薄膜的XPS表征 | 第41-43页 |
| ·制备的PPV薄膜与淬灭剂之间的荧光响应研究 | 第43-52页 |
| ·薄膜与苦味酸之间的荧光响应 | 第44-47页 |
| ·薄膜与TNT之间的荧光响应 | 第47-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第63-64页 |
