| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 钙钛矿氧化物材料 | 第10-12页 |
| 1.2.1 钙钛矿氧化物材料的晶体结构 | 第10-11页 |
| 1.2.2 钙钛矿氧化物材料的特性 | 第11-12页 |
| 1.3 锰氧化物La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3的铁磁性 | 第12-13页 |
| 1.4 应变调控La_(1-x)Sr_xMnO_3薄膜 | 第13-14页 |
| 1.5 钙钛矿氧化物薄膜的泊松比 | 第14-16页 |
| 1.6 本论文的研究工作 | 第16-18页 |
| 第2章 制备和表征氧化物薄膜的实验技术 | 第18-27页 |
| 2.1 氧化物薄膜的制备 | 第18-20页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积技术(PLD) | 第18-19页 |
| 2.1.2 PLD制备氧化物薄膜优缺点 | 第19-20页 |
| 2.2 氧化物薄膜的结构表征方法 | 第20-24页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第20-24页 |
| 2.2.1.1 θ-2θ扫描 | 第20-21页 |
| 2.2.1.2 X射线反射率(XRR) | 第21-22页 |
| 2.2.1.3 倒易空间图(RSM) | 第22-24页 |
| 2.2.2 原子力显微镜(AFM) | 第24页 |
| 2.3 氧化物薄膜的性能表征 | 第24-27页 |
| 2.3.1 综合物性测量系统(PPMS) | 第24-26页 |
| 2.3.2 纳米压痕仪 | 第26-27页 |
| 第3章 La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3外延薄膜的生长与结构分析 | 第27-43页 |
| 3.1 薄膜的生长工艺与条件 | 第27-28页 |
| 3.2 薄膜的表面形貌 | 第28-30页 |
| 3.2.1 (001)取向生长的薄膜表面形貌 | 第29页 |
| 3.2.2 (110)取向生长的薄膜表面形貌 | 第29-30页 |
| 3.3 薄膜的晶体结构与泊松比 | 第30-42页 |
| 3.3.1 (001)取向生长的薄膜晶体结构与泊松比 | 第30-40页 |
| 3.3.2 (110)取向生长的薄膜晶体结构与泊松比 | 第40-42页 |
| 3.4 小结 | 第42-43页 |
| 第4章 La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3薄膜的相关物性调控研究 | 第43-57页 |
| 4.1 La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3薄膜的磁性能 | 第43-50页 |
| 4.1.1 (001)取向生长不同泊松比的薄膜的磁性能 | 第43-46页 |
| 4.1.2 (110)取向生长不同泊松比的薄膜的磁性能 | 第46-50页 |
| 4.2 La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3薄膜的电输运性能 | 第50-51页 |
| 4.3 泊松比与磁电特性的关联 | 第51-53页 |
| 4.4 La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3薄膜的力学性能 | 第53-56页 |
| 4.5 小结 | 第56-57页 |
| 第5章 结论与展望 | 第57-59页 |
| 5.1 结论 | 第57页 |
| 5.2 创新点 | 第57-58页 |
| 5.3 展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第65页 |
