基于透射电镜晶格图像数字云纹的应变测量方法
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 字母注释表 | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-17页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第12页 |
| 1.2 国内外研究动态 | 第12-15页 |
| 1.3 本文的主要工作 | 第15-17页 |
| 第二章 RST的理论与技术基础 | 第17-25页 |
| 2.1 透射电镜晶格图像的栅线提取 | 第17-19页 |
| 2.2 转角几何云纹原理 | 第19-21页 |
| 2.3 数字云纹法 | 第21-23页 |
| 2.4 TEM参考栅相移技术 | 第23-24页 |
| 2.5 本章小结 | 第24-25页 |
| 第三章 RST方法的图像处理流程与验证 | 第25-37页 |
| 3.1 RST的图像处理流程 | 第25-32页 |
| 3.1.1 条纹倾角 | 第26-30页 |
| 3.1.2 栅线转角 | 第30-31页 |
| 3.1.3 面内应变分量 | 第31-32页 |
| 3.2验证实验 | 第32-35页 |
| 3.2.1 单向应变 | 第32-33页 |
| 3.2.2 双向应变 | 第33-34页 |
| 3.2.3 刚体转动 | 第34-35页 |
| 3.3 误差来源分析 | 第35-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 基于RST的多层异质结构应变表征 | 第37-53页 |
| 4.1 锗硅固溶合金多层异质半导体的应变测量 | 第37-47页 |
| 4.2 MOS管结构样品的应变测量 | 第47-51页 |
| 4.3 本章小结 | 第51-53页 |
| 第五章 总结与展望 | 第53-54页 |
| 5.1 工作总结 | 第53页 |
| 5.2 进一步展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 附录 | 第60-71页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
