| 摘要 | 第1-12页 |
| ABSTRACT | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-38页 |
| ·前言 | 第14-16页 |
| ·纳米材料的基本特征 | 第16-18页 |
| ·小尺寸效应 | 第16-17页 |
| ·表面效应 | 第17页 |
| ·量子尺寸效应 | 第17页 |
| ·宏观量子隧道效应 | 第17-18页 |
| ·磁现象与磁性材料 | 第18-21页 |
| ·物质的磁性 | 第18-19页 |
| ·铁磁物质的几个基本概念 | 第19-20页 |
| ·磁性材料 | 第20-21页 |
| ·软磁材料简介 | 第21-30页 |
| ·软磁材料的应用 | 第21-22页 |
| ·软磁材料的制备方法 | 第22-24页 |
| ·软磁材料的分类及研究现状 | 第24-29页 |
| ·CoNiFe合金软磁材料目前存在的问题 | 第29-30页 |
| ·本课题的研究目的、意义和研究内容 | 第30-33页 |
| ·目的和意义 | 第30-31页 |
| ·研究内容 | 第31-33页 |
| 本章参考文献 | 第33-38页 |
| 第二章 实验内容与测试方法 | 第38-45页 |
| ·化学试剂和实验仪器 | 第38-39页 |
| ·实验用化学试剂及规格 | 第38-39页 |
| ·实验仪器 | 第39页 |
| ·镀前的准备工作 | 第39-41页 |
| ·镀液的配制 | 第39-40页 |
| ·电极的预处理 | 第40-41页 |
| ·制备方法及装置 | 第41页 |
| ·测试方法 | 第41-44页 |
| ·样品表征 | 第41-43页 |
| ·电化学测试方法 | 第43-44页 |
| 本章参考文献 | 第44-45页 |
| 第三章 纳米晶CONIFE软磁薄膜的电沉积工艺研究 | 第45-62页 |
| ·前言 | 第45-46页 |
| ·实验方法 | 第46-47页 |
| ·电沉积的主要工艺参数对纳米晶CoNiFe合金薄膜的影响 | 第47-53页 |
| ·Fe~(2+)、Co~(2+)、Ni~(2+)粒子的浓度对镀层的影响 | 第47-49页 |
| ·所加电极电位对镀层的影响 | 第49-53页 |
| ·溶液pH值的影响 | 第53页 |
| ·优化的CoNiFe合金薄膜的表征 | 第53-57页 |
| ·SEM/EDS | 第54-55页 |
| ·XRD | 第55-56页 |
| ·VSM | 第56-57页 |
| ·优化的CoNiFe合金薄膜的耐蚀性 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 本章参考文献 | 第60-62页 |
| 第四章 纳米晶CoNiFe软磁薄膜的电沉积机理的研究 | 第62-79页 |
| ·前言 | 第62-63页 |
| ·实验部分 | 第63-64页 |
| ·计时安培(CHR)测试 | 第64页 |
| ·电化学阻抗(EIS)测试 | 第64页 |
| ·结果与讨论 | 第64-73页 |
| ·循环伏安曲线分析 | 第64-66页 |
| ·CHR分析 | 第66-69页 |
| ·EIS分析 | 第69-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 本章参考文献 | 第75-79页 |
| 第五章 含硼/磷添加剂对纳米晶CONIFE软磁薄膜的影响 | 第79-94页 |
| ·前言 | 第79-80页 |
| ·实验部分 | 第80-82页 |
| ·薄膜的制备 | 第80-81页 |
| ·SEM、EDS的测试 | 第81页 |
| ·XRD的测试 | 第81页 |
| ·VSM的测试 | 第81页 |
| ·Tafel极化的测试 | 第81-82页 |
| ·EIS的测试 | 第82页 |
| ·结果与讨论 | 第82-91页 |
| ·镀层的形貌和组分 | 第82-84页 |
| ·镀层的晶体结构 | 第84-85页 |
| ·镀层的磁性 | 第85-87页 |
| ·镀层的耐蚀性 | 第87-91页 |
| ·本章小结 | 第91-93页 |
| 本章参考文献 | 第93-94页 |
| 全文总结 | 第94-97页 |
| 致谢 | 第97-98页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第98页 |
