摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
符号说明 | 第15-16页 |
第一章 绪论 | 第16-36页 |
1.1 引言 | 第16-17页 |
1.2 二氧化碳甲烷化 | 第17-19页 |
1.2.1 二氧化碳甲烷反应机理 | 第17-18页 |
1.2.2 二氧化碳甲烷化过程 | 第18-19页 |
1.3 二氧化碳甲烷化催化剂研究 | 第19-28页 |
1.3.1 活性组分 | 第19-23页 |
1.3.2 载体选择 | 第23-27页 |
1.3.3 助剂研究 | 第27-28页 |
1.4 纳米载体在催化反应中的应用 | 第28-30页 |
1.4.1 纳米形貌载体在催化反应中的研究进展 | 第28-29页 |
1.4.2 氧化铝(Al_2O_3)纳米形貌在催化中的研究进展 | 第29-30页 |
1.5 复合载体在催化反应中的应用 | 第30-35页 |
1.5.1 碳化硅(Sic)复合载体在催化反应中的研究进展 | 第30-33页 |
1.5.2 镁铝(MgAl)水滑石在催化反应中的研究进展 | 第33-35页 |
1.6 本论文研究意义与内容 | 第35-36页 |
1.6.1 研究意义与内容 | 第35-36页 |
第二章 实验部分 | 第36-44页 |
2.1 实验药品 | 第36-37页 |
2.2 实验设备 | 第37页 |
2.3 催化剂制备 | 第37-40页 |
2.3.1 Ni/Al_2O_3-S和Ni/Al_2O_3-P催化剂 | 第37-38页 |
2.3.2 Ni-Al_2O_3@SiC和Ni-M-Al_2O_3@SiC一系列催化剂 | 第38-39页 |
2.3.3 NiMgAl-HTs和NiMgAl-HTs/SiC催化剂 | 第39-40页 |
2.4 催化剂评价 | 第40-42页 |
2.4.1 活性评价装置图 | 第40-41页 |
2.4.2 气体分析与数据处理 | 第41-42页 |
2.5 催化剂表征 | 第42-44页 |
2.5.1 N_2-吸附表征 | 第42页 |
2.5.2 XRD射线衍射表征(XRD) | 第42页 |
2.5.3 透射电镜表征(TEM) | 第42-43页 |
2.5.4 H_2程序升温还原(H_2-TPR) | 第43页 |
2.5.5 二氧化碳程序升温脱附(CO_2-TPD) | 第43页 |
2.5.6 H_2化学吸附(H_2-Chemisorption) | 第43-44页 |
第三章 Ni/Nano-Al_2O_3纳米形貌催化剂在CO_2甲烷化中的性能研究 | 第44-54页 |
3.1 引言 | 第44-45页 |
3.2 实验结果与讨论 | 第45-52页 |
3.2.1 Ni/Al_2O_3-S和Ni/Al_2O_3-P催化性能比较 | 第45-46页 |
3.2.2 N_2-吸附 | 第46-47页 |
3.2.3 XRD表征 | 第47-48页 |
3.2.4 TEM表征 | 第48-49页 |
3.2.5 H_2-TPR表征 | 第49-50页 |
3.2.6 CO_2-TPD表征 | 第50-51页 |
3.2.7 Ni/Al_2O_3-S催化剂稳定性评价 | 第51-52页 |
3.3 小结 | 第52-54页 |
第四章 Ni-CeO_2-Al_2O_3@SiC系列催化剂在CO_2甲烷化中的性能研究 | 第54-64页 |
4.1 引言 | 第54-55页 |
4.2 实验结果与讨论 | 第55-62页 |
4.2.1 不同助剂对Ni-Al_2O_3@SiC催化剂进行改性催化性能比较 | 第55-56页 |
4.2.2 对加入助剂CeO_2一系列催化剂展开深入研究 | 第56-57页 |
4.2.3 从吸附表征 | 第57-58页 |
4.2.4 XRD表征 | 第58-59页 |
4.2.5 TEM表征 | 第59-60页 |
4.2.6 H_2-TPR表征 | 第60-61页 |
4.2.7 CO_2-TPD表征 | 第61-62页 |
4.2.8 Ni-CeO_2-Al_2O_3@SiC催化剂稳定性评价 | 第62页 |
4.3 小结 | 第62-64页 |
第五章 NiMgAl-HTs/SiC催化剂在CO_2甲烷化中的性能研究 | 第64-72页 |
5.1 引言 | 第64页 |
5.2 实验结果与讨论 | 第64-70页 |
5.2.1 NiMgAl-HTs和NiMgAl-HTs/SiC催化剂性能比较 | 第64-65页 |
5.2.2 XRD表征 | 第65-66页 |
5.2.3 H_2-Chemisorption表征 | 第66-67页 |
5.2.4 TEM表征 | 第67-68页 |
5.2.5 H_2-TPR表征 | 第68-69页 |
5.2.6 CO_2-TPD表征 | 第69页 |
5.2.7 NiMgAl-HTs/SiC催化剂稳定性评价 | 第69-70页 |
5.3 小结 | 第70-72页 |
第六章 结论与展望 | 第72-74页 |
6.1 结论 | 第72页 |
6.2 创新点 | 第72-73页 |
6.3 研究展望 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-82页 |
致谢 | 第82-84页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第84-86页 |
作者和导师简介 | 第86-87页 |
附件 | 第87-88页 |