中文摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 前言 | 第9-23页 |
1.1 软物质 | 第9-10页 |
1.1.1 概述 | 第9页 |
1.1.2 响应性分子 | 第9-10页 |
1.2 液晶 | 第10-15页 |
1.2.1 液晶的基本概念 | 第10-11页 |
1.2.2 液晶的分类 | 第11页 |
1.2.3 高分子液晶 | 第11-12页 |
1.2.4 液晶聚合物与液晶弹性体 | 第12-14页 |
1.2.5 以聚硅氧烷为主链的液晶材料 | 第14-15页 |
1.3 偶氮苯类液晶 | 第15-19页 |
1.3.1 偶氮苯基团 | 第15页 |
1.3.2 偶氮苯分子的光致异构 | 第15-17页 |
1.3.3 偶氮苯液晶聚合物 | 第17-19页 |
1.4 联苯类液晶 | 第19-21页 |
1.4.1 侧链型液晶聚合物 | 第19-20页 |
1.4.2 联苯液晶聚合物 | 第20-21页 |
1.5 微纳图案化 | 第21-22页 |
1.6 论文的研究内容及意义 | 第22-23页 |
第二章 液晶聚合物的制备及微纳结构构筑 | 第23-47页 |
2.1 引言 | 第23页 |
2.2 实验主要试剂、仪器和设备 | 第23-26页 |
2.2.1 试剂和原料 | 第23-25页 |
2.2.2 实验仪器和设备 | 第25-26页 |
2.3 小分子偶氮苯的制备 | 第26-30页 |
2.3.1 合成4,4'-二羟基偶氮苯 | 第26-27页 |
2.3.2 合成4,4'-二-(5-烯基-1-氧基)偶氮苯 | 第27-28页 |
2.3.3 合成4,4'-二-(11-羟基-1-氧基)偶氮苯 | 第28-29页 |
2.3.4 合成4,4'-二-(11-丙烯酸酯-1-氧基)偶氮苯 | 第29-30页 |
2.4 联苯小分子的制备 | 第30-34页 |
2.4.1 (R)-HOC_6H_4C_6H_4OC*H(CH_3)C_6H_(13)的合成 | 第30-31页 |
2.4.2 (R)-HOC_(11)H_(22)OC_6H_4C_6H_4OC*H(CH_3)C_6H_(13)的合成 | 第31-32页 |
2.4.3 (R)-CH_2=CHCOOC_(11)H_(22)OC_6H_4C_6H_4OC*H(CH_3)C6H_(13)的合成 | 第32-33页 |
2.4.4 NCC_6H_4C_6H_4OC_9H_(18)CH=CH_2的合成 | 第33-34页 |
2.5 联苯类液晶聚合物的合成 | 第34-38页 |
2.5.1 联苯聚合物(Ⅰ)的合成 | 第34-36页 |
2.5.2 联苯聚合物(Ⅱ)的合成 | 第36-38页 |
2.6 联苯聚合物液晶性的表征 | 第38-41页 |
2.6.1 热力学表征 | 第38-39页 |
2.6.2 光学表征 | 第39-41页 |
2.7 激光直写的原理 | 第41-42页 |
2.8 激光直写步骤 | 第42-43页 |
2.8.1 玻璃基底的预处理 | 第42页 |
2.8.2 巯基-烯光刻胶的制备 | 第42页 |
2.8.3 二维三维微纳结构的设计导入 | 第42-43页 |
2.8.4 制样准备 | 第43页 |
2.8.5 样品的后处理 | 第43页 |
2.8.6 轮廓尺寸表征 | 第43页 |
2.9 液晶聚合物纳米图案化的研究 | 第43-46页 |
2.9.1 激光直写条件的探索 | 第43-44页 |
2.9.2 液晶基元取向研究 | 第44-45页 |
2.9.3 复杂微纳结构的制备 | 第45-46页 |
2.10 本章小结 | 第46-47页 |
第三章 二肽自组装行为研究 | 第47-62页 |
3.1 引言 | 第47-48页 |
3.2 实验试剂与仪器 | 第48-50页 |
3.2.1 实验试剂 | 第48-50页 |
3.2.2 实验仪器 | 第50页 |
3.3 实验部分 | 第50-55页 |
3.3.1 NCC_6H_4C_6H_4O(CH_2)_(10)COOH的合成 | 第50-51页 |
3.3.2 二肽化合物的合成及表征 | 第51-54页 |
3.3.3 氰基联苯Ala-Ala二肽的组装行为 | 第54-55页 |
3.4 氰基联苯Ala-Ala二肽自组装行为的研究 | 第55-61页 |
3.4.1 制样方法 | 第55-56页 |
3.4.2 自组装行为 | 第56-58页 |
3.4.3 光学活性研究 | 第58-60页 |
3.4.4 谱学研究 | 第60-61页 |
3.5 本章小结 | 第61-62页 |
第四章 全文总结 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-68页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第68-69页 |
致谢 | 第69页 |