| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-24页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 光催化原理 | 第10-11页 |
| 1.3 光催化研究进展 | 第11-19页 |
| 1.3.1 光催化剂的改性方法 | 第11-15页 |
| 1.3.2 光催化技术的应用 | 第15-19页 |
| 1.4 硫族半导体 | 第19-22页 |
| 1.4.1 纳米MoS_2 | 第19-22页 |
| 1.4.2 CdS纳米颗粒 | 第22页 |
| 1.5 本论文的研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 实验部分 | 第24-33页 |
| 2.1 实验药品 | 第24-25页 |
| 2.2 实验仪器及设备 | 第25页 |
| 2.3 催化剂合成的基本流程 | 第25-27页 |
| 2.3.1 混合溶剂回流法 | 第25-26页 |
| 2.3.2 溶胶-凝胶法 | 第26-27页 |
| 2.3.3 水热合成法 | 第27页 |
| 2.4 催化剂表征 | 第27-30页 |
| 2.4.1 XRD粉末衍射 | 第27-28页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜 | 第28页 |
| 2.4.3 透射电子显微镜 | 第28页 |
| 2.4.4 紫外-可见漫反射 | 第28-29页 |
| 2.4.5 拉曼光谱 | 第29页 |
| 2.4.6 电化学性能测试 | 第29页 |
| 2.4.7 原子力显微镜 | 第29-30页 |
| 2.4.8 X射线光电子能谱 | 第30页 |
| 2.4.9 荧光光谱 | 第30页 |
| 2.5 催化剂性能评估 | 第30-33页 |
| 2.5.1 光催化分解水性能测试 | 第30-31页 |
| 2.5.2 光催化氧化As（Ⅲ）性能测试 | 第31页 |
| 2.5.3 光催化氧化As（Ⅲ）机理探究 | 第31-33页 |
| 第3章 混合溶剂回流剥离制备MoS_2纳米片 | 第33-44页 |
| 3.1 剥离工艺各条件的确定 | 第33-36页 |
| 3.1.1 回流温度的选取 | 第33-34页 |
| 3.1.2 回流时间的选取 | 第34-35页 |
| 3.1.3 乙醇-水溶液最佳比例的选取 | 第35-36页 |
| 3.2 XRD粉末衍射 | 第36-38页 |
| 3.3 电子显微镜照片 | 第38-39页 |
| 3.3.1 场发射扫描电子显微镜 | 第38页 |
| 3.3.2 透射电子显微镜 | 第38-39页 |
| 3.4 紫外-可见漫反射 | 第39-40页 |
| 3.5 拉曼光谱 | 第40-41页 |
| 3.6 光生电流 | 第41-42页 |
| 3.7 原子力显微镜 | 第42-43页 |
| 3.8 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 CdS/Sr_2(Nb_(1-x)Znx)_2O_(7-δ)(x=1/27,1/18,1/9)的合成及其性能研究 | 第44-64页 |
| 4.1 催化剂的合成 | 第44-46页 |
| 4.1.1 SNO以及SNZO的合成 | 第44-45页 |
| 4.1.2 CdS/SNZO的合成 | 第45-46页 |
| 4.2 催化剂结构表征 | 第46-55页 |
| 4.2.1 XRD粉末衍射 | 第46-48页 |
| 4.2.2 SEM和TEM | 第48-50页 |
| 4.2.3 紫外-可见漫反射 | 第50-51页 |
| 4.2.4 XPS | 第51-52页 |
| 4.2.5 电化学 | 第52-54页 |
| 4.2.6 荧光光谱 | 第54-55页 |
| 4.3 光催化性能 | 第55-61页 |
| 4.3.1 光催化分解水制氢 | 第55-58页 |
| 4.3.2 光催化氧化As（Ⅲ） | 第58-60页 |
| 4.3.3 光催化氧化As（Ⅲ）机理探究 | 第60-61页 |
| 4.4 光催化机理 | 第61-62页 |
| 4.5 本章小结 | 第62-64页 |
| 第5章 总结与展望 | 第64-66页 |
| 5.1 总结 | 第64-65页 |
| 5.2 展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 发表的论文及专利 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |