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集成电路布图设计专有权保护研究--以矽威诉源之峰专有权侵权案为例

摘要第3-4页
Abstract第4页
目录第5-6页
引言第6-7页
第一章 案例介绍及主要争议第7-10页
    1.1 案情基本介绍第7-8页
    1.2 案件引发的争议第8-10页
第二章 对是否销毁侵权产品的分析第10-18页
    2.1 现有法律层面对是否销毁侵权产品的分析第10-13页
    2.2 是否销毁背后“平等发展权”与知识产权保护的冲突第13-17页
    2.3 是否销毁侵权产品的启示第17-18页
第三章 对如何确定是否侵权的分析第18-26页
    3.1 现有法律层面对如何确定是否侵权的分析第18-20页
    3.2 立法保护模式与侵权标准的确定第20-23页
        3.2.1 布图设计纳入其他模式保护的障碍第20-23页
        3.2.2 立法保护模式对确定侵权标准的启示第23页
    3.3 布图设计本身特点与侵权标准的确定第23-26页
        3.3.1 布图设计本身特点的分析第23-25页
        3.3.2 布图设计本身特点对确定侵权标准的启示第25-26页
结语第26-30页
参考文献第30-32页
在学期间的研究成果第32-33页
致谢第33页

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