| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第16-34页 |
| 1.1 ZnO材料的基本特性 | 第16-20页 |
| 1.1.1 ZnO材料的结构和缺陷 | 第16-19页 |
| 1.1.2 ZnO薄膜材料的特性 | 第19-20页 |
| 1.2 ZnO薄膜的制备工艺 | 第20-24页 |
| 1.2.1 磁控溅射法 | 第21-22页 |
| 1.2.2 脉冲激光法 | 第22-23页 |
| 1.2.3 分子束外延 | 第23页 |
| 1.2.4 原子层沉积 | 第23-24页 |
| 1.2.5 溶胶-凝胶法 | 第24页 |
| 1.3 ZnO薄膜的应用 | 第24-31页 |
| 1.3.1 压敏材料 | 第25-29页 |
| 1.3.2 ZnO发光管和激光器 | 第29页 |
| 1.3.3 太阳能电池 | 第29页 |
| 1.3.4 紫外光探测器 | 第29-30页 |
| 1.3.5 光电器件单片集成用 | 第30页 |
| 1.3.6 表面声波器件 | 第30-31页 |
| 1.3.7 作为GaN的缓冲层 | 第31页 |
| 1.4 本文的选题意义以及研究的主要内容 | 第31-34页 |
| 第二章 氧化锌薄膜的制备 | 第34-52页 |
| 2.1 引言 | 第34页 |
| 2.2 薄膜的制备 | 第34-38页 |
| 2.2.1 磁控溅射的工作原理 | 第34-35页 |
| 2.2.2 实验设备 | 第35-36页 |
| 2.2.3 薄膜的制备过程 | 第36-38页 |
| 2.3 ZnO薄膜的表征方法 | 第38-40页 |
| 2.3.1 X射线衍射仪(XRD) | 第38页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第38页 |
| 2.3.3 原子力显微镜(AFM) | 第38-39页 |
| 2.3.4 I-V特性曲线 | 第39页 |
| 2.3.5 微区I-V曲线测试 | 第39页 |
| 2.3.6 光致发光谱 | 第39页 |
| 2.3.7 拉曼散射仪 | 第39-40页 |
| 2.4 不同溅射条件对薄膜的影响 | 第40-47页 |
| 2.4.1 不同溅射功率对ZnO薄膜结构和形貌的影响 | 第40-43页 |
| 2.4.2 沉积气压 | 第43-46页 |
| 2.4.3 衬底温度 | 第46-47页 |
| 2.5 ZnO薄膜的性质 | 第47-50页 |
| 2.6 本章小结 | 第50-52页 |
| 第三章 压敏薄膜的制备及其非线性特性的研究 | 第52-60页 |
| 3.1 引言 | 第52页 |
| 3.2 压敏薄膜的制备 | 第52-53页 |
| 3.3 压敏薄膜的结构和性能 | 第53-56页 |
| 3.3.1 压敏薄膜的结构和形貌 | 第53-55页 |
| 3.3.2 压敏薄膜的性能 | 第55-56页 |
| 3.4 不同退火气氛对压敏薄膜性能的影响 | 第56-59页 |
| 3.5 本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 ZnO及其氧化物双层薄膜的非线性特性研究 | 第60-70页 |
| 4.1 引言 | 第60-61页 |
| 4.2 ZnO系薄膜的制备 | 第61页 |
| 4.3 不同组分薄膜的结构和形貌 | 第61-64页 |
| 4.4 ZnO薄膜非线性来源的研究 | 第64-67页 |
| 4.5 本章小结 | 第67-70页 |
| 第五章 不同热处理气氛对薄膜结构和性能的影响 | 第70-82页 |
| 5.1 引言 | 第70页 |
| 5.2 制备与测试 | 第70页 |
| 5.3 对ZnO薄膜的影响 | 第70-75页 |
| 5.3.1 对结构和形貌的影响 | 第70-73页 |
| 5.3.2 对性能的影响 | 第73-75页 |
| 5.4 对ZnO/Cr_2O_3薄膜的影响 | 第75-80页 |
| 5.4.1 对结构和形貌的影响 | 第75-77页 |
| 5.4.2 对性能的影响 | 第77-80页 |
| 5.5 本章小结 | 第80-82页 |
| 第六章 结论 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-92页 |
| 致谢 | 第92-94页 |
| 作者简历及攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第94页 |