湿法化学刻蚀法制备硅纳米线

摘要	第1-5页
Abstract	第5-8页
第一章 绪论	第8-14页
·硅纳米线的研究进展	第8-9页
·硅纳米线的制备方法	第9-10页
·硅纳米线的物理特性	第10-12页
·硅纳米线场发射特性	第10-11页
·硅纳米线电子传输特性	第11页
·硅纳米线的Raman 光谱性质	第11-12页
·本论文研究的问题和意义	第12-14页
第二章 硅纳米线材料的表征和制备	第14-19页
·硅纳米材料的表征手段	第14-16页
·扫描电子显微镜	第14-15页
·喇曼光谱	第15-16页
·实验材料的准备及测试	第16-19页
·实验前衬底Si 清洗	第16-17页
·湿法化学刻蚀法制备硅纳米线	第17-18页
·样品的测试和表征	第18-19页
第三章 制备条件对硅纳米线形貌的影响	第19-25页
·生长时间对硅纳米线形貌的影响	第19-21页
·氢氟酸浓度对硅纳米线形貌的影响	第21-22页
·硝酸银浓度对硅纳米线形貌的影响	第22-23页
·生长温度对硅纳米线形貌的影响	第23-24页
·本章小结	第24-25页
第四章 不同制备条件硅纳米线Raman 光谱性质	第25-33页
·氢氟酸浓度对硅纳米线Raman 光谱的影响	第25-27页
·硝酸银浓度对硅纳米线Raman 光谱的影响	第27-29页
·生长温度对硅纳米线Raman 光谱的影响	第29-31页
·本章小结	第31-33页
第五章 结论	第33-34页
·本文的主要研究结果	第33页
·对今后工作的展望	第33-34页
参考文献	第34-37页
致谢	第37页