电厂化学水PLC自控系统的改造设计
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
第一章 绪论 | 第9-13页 |
1.1 选题背景与研究意义 | 第9-10页 |
1.2 化学水处理控制系统的现状与发展趋势 | 第10-11页 |
1.2.1 继电器控制方式 | 第10页 |
1.2.2 小型PLC控制与盘操共存方式 | 第10页 |
1.2.3 两级控制方式 | 第10-11页 |
1.3 本文主要工作 | 第11页 |
1.4 本章小结 | 第11-13页 |
第二章 化学水处理工艺概述 | 第13-21页 |
2.1 工艺流程概况 | 第13页 |
2.2 原水预处理 | 第13-15页 |
2.3 反渗透水处理 | 第15-17页 |
2.4 除盐处理 | 第17-19页 |
2.5 本章小结 | 第19-21页 |
第三章 项目总体方案设计 | 第21-35页 |
3.1 项目背景 | 第21页 |
3.2 控制系统的配置要求 | 第21-22页 |
3.3 控制系统方案设计 | 第22-28页 |
3.3.1 控制对象 | 第22-25页 |
3.3.2 控制流程 | 第25-28页 |
3.4 控制方案的优化 | 第28-33页 |
3.4.1 PID控制 | 第28-31页 |
3.4.2 反馈模型设计 | 第31-33页 |
3.5 系统的网络规划 | 第33-34页 |
3.6 本章小结 | 第34-35页 |
第四章 控制系统的硬件配置与设计 | 第35-45页 |
4.1 PLC概述 | 第35-38页 |
4.1.1 PLC的结构 | 第35-36页 |
4.1.2 PLC的特点 | 第36-37页 |
4.1.3 PLC的应用 | 第37-38页 |
4.2 项目的硬件选型 | 第38-39页 |
4.2.1 PLC的选型 | 第38页 |
4.2.2 CPU的选型 | 第38-39页 |
4.3 冗余热备系统介绍 | 第39-43页 |
4.4 项目需增加的硬件设备 | 第43页 |
4.5 项目硬件配置设计 | 第43-44页 |
4.6 本章小结 | 第44-45页 |
第五章 控制系统的软件设计 | 第45-69页 |
5.1 下位软件Unity Pro概述 | 第45-51页 |
5.1.1 Unity Pro功能介绍 | 第45-46页 |
5.1.2 项目硬件组态 | 第46-51页 |
5.2 下位程序设计 | 第51-54页 |
5.3 上位组态软件Intouch概述 | 第54-59页 |
5.3.1 InTouch功能特点 | 第55-56页 |
5.3.2 软件的应用介绍 | 第56-59页 |
5.4 上位监控画面的设计 | 第59-63页 |
5.5 上下位软件间的通讯 | 第63-67页 |
5.6 本章小结 | 第67-69页 |
第六章 系统的运行调试与数据分析 | 第69-75页 |
6.1 系统测试 | 第69-70页 |
6.2 系统现场调试 | 第70-71页 |
6.3 现场数据与仿真数据对比分析 | 第71-73页 |
6.3.1 现场数据分析 | 第71页 |
6.3.2 仿真数据分析 | 第71-73页 |
6.4 本章小结 | 第73-75页 |
第七章 总结与展望 | 第75-77页 |
7.1 论文总结 | 第75页 |
7.2 体会与展望 | 第75-77页 |
致谢 | 第77-79页 |
参考文献 | 第79-83页 |
附录A 攻读学位期间发表的软著及实践情况 | 第83页 |