摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
引言 | 第10-11页 |
1 文献综述 | 第11-29页 |
1.1 活性炭的基本特征 | 第11-15页 |
1.1.1 活性炭的微晶结构 | 第11-12页 |
1.1.2 活性炭的孔隙结构 | 第12-14页 |
1.1.3 活性炭的组成 | 第14-15页 |
1.2 活性炭的制备方法 | 第15-17页 |
1.3 KOH活化成孔机理 | 第17-19页 |
1.4 K-GICs的脱插机理 | 第19-21页 |
1.5 活性炭孔隙结构的调变方法 | 第21-22页 |
1.5.1 原料预处理 | 第21-22页 |
1.5.2 制备条件对活性炭孔道结构的影响 | 第22页 |
1.6 活性炭表面性质的调控 | 第22-24页 |
1.6.1 表面氧化改性 | 第23页 |
1.6.2 表面还原改性 | 第23-24页 |
1.6.3 表面酸碱改性 | 第24页 |
1.7 活性炭的应用 | 第24-27页 |
1.7.1 活性炭作为吸附剂的应用 | 第25页 |
1.7.2 活性炭作为催化剂及催化剂载体的应用 | 第25-26页 |
1.7.3 活性炭作为能量转化载体的应用 | 第26-27页 |
1.7.4 活性炭作为气体存储载体的应用 | 第27页 |
1.8 本论文选题依据及研究内容 | 第27-29页 |
2 活性炭样品的制备和表征 | 第29-36页 |
2.1 活性炭样品的制备 | 第29-30页 |
2.1.1 实验原料 | 第29页 |
2.1.2 实验试剂及仪器 | 第29-30页 |
2.2 制备工艺流程 | 第30-32页 |
2.3 引入脱插试剂后所制产物的表征方法 | 第32-36页 |
2.3.1 尾气分析 | 第32页 |
2.3.2 比表面积和孔径分布 | 第32页 |
2.3.3 Boehm滴定法 | 第32-35页 |
2.3.4 红外光谱分析 | 第35页 |
2.3.5 元素分析 | 第35页 |
2.3.6 X射线衍射分析 | 第35-36页 |
3 脱插试剂的引入对所制活性炭孔隙结构的影响 | 第36-57页 |
3.1 不同脱插试剂的引入量对所制活性炭孔隙结构的影响 | 第36-48页 |
3.1.1 不同含量H_2O的引入对所制活性炭孔隙结构的影响 | 第37-40页 |
3.1.2 不同含量CH_3OH的引入对所制活性炭孔隙结构的影响 | 第40-42页 |
3.1.3 不同含量CH_3CH_2OH的引入对所制活性炭孔隙结构的影响 | 第42-45页 |
3.1.4 不同含量CH_3COOH的引入对所制活性炭的孔隙结构的影响 | 第45-48页 |
3.2 K-GICs脱插过程的反应性研究 | 第48-52页 |
3.2.1 脱插过程尾气分析 | 第48-50页 |
3.2.2 脱插过程产物分析 | 第50-52页 |
3.3 活性炭的脱插成孔机理研究 | 第52-55页 |
3.3.1 引入脱插试剂对所制活性炭晶型结构的影响 | 第52-54页 |
3.3.2 K-GICs的脱插成孔规律 | 第54-55页 |
3.4 本章小结 | 第55-57页 |
4 脱插试剂的引入对所制活性炭表面特性影响 | 第57-69页 |
4.1 引入H_2O对所制活性炭表面特性的影响 | 第57-61页 |
4.1.1 引入不同含量H_2O后产物的滴定分析 | 第57-58页 |
4.1.2 引入H_2O后产物的红外分析 | 第58-60页 |
4.1.3 引入H_2O后产物的元素分析 | 第60-61页 |
4.2 引入CH_3OH对所制活性炭表面性质的影响 | 第61-63页 |
4.2.1 引入不同含量CH_3OH后产物的Boehm滴定分析 | 第61页 |
4.2.2 引入CH_3OH后产物的红外分析 | 第61-62页 |
4.2.3 引入CH_3OH后产物的元素分析 | 第62-63页 |
4.3 引入CH_3CH_2OH对所制活性炭表面性质的影响 | 第63-65页 |
4.3.1 引入不同含量CH_3CH_2OH后产物的Boehm滴定分析 | 第63页 |
4.3.2 引入CH_3CH_2OH后产物的红外分析 | 第63-64页 |
4.3.3 引入CH_3CH_2OH后产物的元素分析 | 第64-65页 |
4.4 引入CH_3COOH对所制活性炭表面性质的影响 | 第65-67页 |
4.4.1 引入不同含量CH_3COOH后产物Boehm滴定分析 | 第65页 |
4.4.2 引入CH_3COOH后产物的红外分析 | 第65-66页 |
4.4.3 引入CH_3COOH后产物的元素分析 | 第66-67页 |
4.5 本章小结 | 第67-69页 |
结论 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-76页 |
致谢 | 第76-77页 |