| 摘要 | 第4-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 1 绪论 | 第18-52页 |
| 1.1 引言 | 第18-19页 |
| 1.2 锡的性质及用途 | 第19-20页 |
| 1.3 锡及其合金的腐蚀研究进展 | 第20-24页 |
| 1.3.1 锡及其合金在本体溶液中的腐蚀 | 第20-22页 |
| 1.3.2 锡及其合金的大气腐蚀 | 第22-24页 |
| 1.4 电化学迁移 | 第24-30页 |
| 1.4.1 电化学迁移的概念及分类 | 第24-26页 |
| 1.4.2 电化学迁移国内外研究现状 | 第26-27页 |
| 1.4.3 电化学迁移的研究方法 | 第27-29页 |
| 1.4.4 电化学迁移研究的环境介质 | 第29-30页 |
| 1.4.5 不同材料的电化学迁移行为 | 第30页 |
| 1.5 薄液膜下的腐蚀电化学研究 | 第30-36页 |
| 1.5.1 薄液膜下的腐蚀电化学研究现状 | 第31-34页 |
| 1.5.2 薄液膜下的阴极过程 | 第34-35页 |
| 1.5.3 薄液膜下的阳极过程 | 第35-36页 |
| 1.6 本论文的研究目的及意义 | 第36页 |
| 1.7 本论文的研究内容 | 第36-37页 |
| 1.8 本文的创新点 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-52页 |
| 2 实验装置与测试方法 | 第52-56页 |
| 2.1 前言 | 第52页 |
| 2.2 电极材料 | 第52页 |
| 2.3 化学试剂和实验仪器 | 第52页 |
| 2.3.1 化学试剂 | 第52页 |
| 2.3.2 实验仪器 | 第52页 |
| 2.4 测试方法 | 第52-55页 |
| 2.4.1 阴极极化曲线 | 第52-53页 |
| 2.4.2 电化学阻抗谱 | 第53-54页 |
| 2.4.3 3D微镜原位测试 | 第54页 |
| 2.4.4 扫描电子显微镜和能谱分析 | 第54页 |
| 2.4.5 X射线光电子能谱 | 第54页 |
| 2.4.6 电感耦合等离子体质谱 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
| 3 薄液膜下锡的腐蚀行为及机理研究 | 第56-78页 |
| 3.1 前言 | 第56页 |
| 3.2 实验部分 | 第56-59页 |
| 3.2.1 电极的制备 | 第57页 |
| 3.2.2 薄液膜下的电解池 | 第57-58页 |
| 3.2.3 液膜厚度测量装置 | 第58-59页 |
| 3.2.4 电化学测试 | 第59页 |
| 3.2.5 表面形貌及化学组成测定 | 第59页 |
| 3.3 结果 | 第59-65页 |
| 3.3.1 电化学测试结果 | 第59-63页 |
| 3.3.2 腐蚀产物的形貌 | 第63页 |
| 3.3.4 腐蚀产物的化学组成 | 第63-65页 |
| 3.4 讨论 | 第65-74页 |
| 3.4.1 锡在薄液膜下的腐蚀反应 | 第65-66页 |
| 3.4.2 阴极极化曲线 | 第66-69页 |
| 3.4.3 电化学阻抗谱 | 第69-73页 |
| 3.4.4 锡在薄液膜下的腐蚀机理模型 | 第73-74页 |
| 3.5 本章小结 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 4 电化学迁移研究新方法的建立 | 第78-97页 |
| 4.1 前言 | 第78-80页 |
| 4.2 实验部分 | 第80-83页 |
| 4.2.1 实验材料及试剂 | 第80-81页 |
| 4.2.2 电极的制备 | 第81-82页 |
| 4.2.3 薄液膜法原位研究\实时监测系统 | 第82-83页 |
| 4.3 结果 | 第83-88页 |
| 4.3.1 枝晶形貌的测定 | 第83-84页 |
| 4.3.2 电极表面pH分布测定 | 第84-85页 |
| 4.3.3 锡的电化学迁移行为实时监测 | 第85-88页 |
| 4.4 讨论 | 第88-94页 |
| 4.4.1 薄液膜法的普遍适用性 | 第88-91页 |
| 4.4.2 薄液膜法与水滴实验法原位图片效果对比 | 第91-92页 |
| 4.4.3 薄液膜法与水滴实验法电化学结果重现性对比 | 第92-94页 |
| 4.5 本章小结 | 第94页 |
| 参考文献 | 第94-97页 |
| 5 稳态电场下锡的电化学迁移行为及机理研究 | 第97-132页 |
| 5.1 前言 | 第97-99页 |
| 5.2 实验部分 | 第99-100页 |
| 5.2.1 实验材料及试剂 | 第99页 |
| 5.2.2 电极系统及实验装置 | 第99页 |
| 5.2.3 不同液膜厚度下锡的电化学迁移行为测定及表征 | 第99页 |
| 5.2.4 不同氯离子浓度、偏压下锡的电化学迁移行为测试 | 第99-100页 |
| 5.2.5 枝晶和沉淀的微观形貌测定 | 第100页 |
| 5.2.6 沉淀的化学组成测定 | 第100页 |
| 5.3 结果 | 第100-112页 |
| 5.3.1 各种液膜厚度下锡的电化学迁移行为 | 第100-102页 |
| 5.3.2 原位观察锡在不同氯离子浓度和偏压下的电化学迁移行为 | 第102-105页 |
| 5.3.3 电化学迁移中的电流和短路时间监测 | 第105-106页 |
| 5.3.4 枝晶和沉淀的微观形貌 | 第106-107页 |
| 5.3.5 沉淀的化学组成 | 第107-112页 |
| 5.4 讨论 | 第112-128页 |
| 5.4.1 电化学迁移过程中的阳极、阴极反应 | 第112-113页 |
| 5.4.2 沉淀的形成机制 | 第113-115页 |
| 5.4.3 枝晶生长的一般机理 | 第115-116页 |
| 5.4.4 液膜厚度对电化学迁移行为的影响 | 第116-119页 |
| 5.4.5 氯离子浓度对锡的电化学迁移行为的影响及机理 | 第119-128页 |
| 5.4.6 偏压对锡的电化学迁移行为的影响及机理 | 第128页 |
| 5.5 本章小结 | 第128-129页 |
| 参考文献 | 第129-132页 |
| 6 非稳态电场下锡的电化学迁移行为及机理研究 | 第132-151页 |
| 6.1 前言 | 第132-133页 |
| 6.2 实验部分 | 第133-134页 |
| 6.2.1 实验材料及试剂 | 第133页 |
| 6.2.2 电极系统及实验装置 | 第133页 |
| 6.2.3 方波类型及电化学迁移行为测试 | 第133-134页 |
| 6.3 结果 | 第134-142页 |
| 6.3.1 原位观察单向方波电场下锡的电化学迁移行为 | 第134-136页 |
| 6.3.2 单向方波电场下电流-时间曲线及短路时间 | 第136-139页 |
| 6.3.3 原位观察双向方波电场下锡的电化学迁移行为 | 第139-140页 |
| 6.3.4 双向方波电场下电流-时间曲线 | 第140-142页 |
| 6.4 讨论 | 第142-148页 |
| 6.4.1 方波电场下涉及到的化学/电化学反应 | 第142页 |
| 6.4.2 OFF time期间的反向极化及其影响 | 第142-146页 |
| 6.4.3 占空比对电化学迁移行为的影响 | 第146-147页 |
| 6.4.4 周期对电化学迁移行为的影响 | 第147页 |
| 6.4.5 极化方向对电化学迁移行为的影响 | 第147-148页 |
| 6.5 本章小结 | 第148页 |
| 参考文献 | 第148-151页 |
| 7 全文总结与展望 | 第151-154页 |
| 7.1 全文总结 | 第151-152页 |
| 7.2 前景展望 | 第152-154页 |
| 致谢 | 第154-155页 |
| 附录1 攻读学位期间发表的论文 | 第155页 |
