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拓扑绝缘体中的拓扑相和拓扑量子相变的研究

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
目录第9-11页
第一章 绪论第11-42页
    第一节 引言第11-12页
    第二节 整数量子霍尔效应第12-18页
        2.1 Laughlin规范理论第14-16页
        2.2 TKNN不变量第16-18页
    第三节 量子反常霍尔效应第18-20页
    第四节 量子自旋霍尔效应第20-30页
        4.1 Kane-Mele模型和HgTe/CdTe量子阱第21-24页
        4.2 Z_2拓扑数和自旋陈数第24-29页
        4.3 时间反演对称破缺的量子自旋霍尔效应第29-30页
    第五节 边缘态与体-边缘对应第30-32页
    第六节 本文研究目的和意义第32-34页
    参考文献第34-42页
第二章 拓扑绝缘体中边缘态的出现和消失第42-65页
    第一节 引言第42-43页
    第二节 三维拓扑绝缘体第43-51页
        2.1 Bi_2Se_3家族拓扑绝缘体第44-49页
        2.2 三维拓扑绝缘体薄膜第49-51页
    第三节 理论模型和计算第51-55页
    第四节 拓扑绝缘体薄膜中的拓扑量子相变第55-56页
    第五节 晶格模型和边缘态第56-58页
    第六节 本章小结第58-60页
    参考文献第60-65页
第三章 二维自旋轨道耦合系统在交错磁通下的拓扑量子相变第65-85页
    第一节 引言第65-66页
    第二节 理论模型和计算第66-69页
    第三节 量子自旋霍尔系统在交错磁通下的拓扑量子相变第69-74页
        3.1 时间反演对称的拓扑量子相变第71-72页
        3.2 时间反演对称破缺的拓扑量子相变第72-74页
    第四节 系统边缘态的性质第74-79页
    第五节 本章小结第79-81页
    参考文献第81-85页
第四章 总结与展望第85-88页
    第一节 总结第85-86页
    第二节 展望第86-87页
    参考文献第87-88页
博士期间发表的论文第88-89页
致谢第89-91页

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