| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 PCD 概述 | 第9-11页 |
| 1.1.1 PCD 的性质和应用 | 第9-10页 |
| 1.1.2 PCD 结合剂的研究和进展 | 第10-11页 |
| 1.2 非化学计量比碳化钛 | 第11-15页 |
| 1.2.1 非化学计量比化合物 | 第11-12页 |
| 1.2.2 非化学计量比 TiCx | 第12-14页 |
| 1.2.3 机械合金化制备 TiCx | 第14-15页 |
| 1.3 AlN 和 TaC 的性质介绍 | 第15-18页 |
| 1.3.1 AlN 的性质和应用 | 第15-16页 |
| 1.3.2 TaC 的性质和应用 | 第16-17页 |
| 1.3.3 TiCx与 AlN 和 TaC 吉布斯自由能的关系 | 第17-18页 |
| 1.4 高压烧结 | 第18-19页 |
| 1.5 选题背景及研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 实验方法与研究内容 | 第21-27页 |
| 2.1 实验原料 | 第21页 |
| 2.2 实验设备 | 第21页 |
| 2.3 实验方法 | 第21-27页 |
| 2.3.1 机械合金化制备 TiC_(0.4) | 第22页 |
| 2.3.2 高压烧结 | 第22-24页 |
| 2.3.3 物相分析 | 第24-25页 |
| 2.3.4 形貌观察 | 第25页 |
| 2.3.5 维氏硬度测试 | 第25页 |
| 2.3.6 断裂韧性测试 | 第25-27页 |
| 第3章 TiC_(0.4)与第二相的界面扩散 | 第27-38页 |
| 3.1 机械合金化制备 TiC_(0.4)纳米粉末 | 第28-30页 |
| 3.1.1 TiC_(0.4)粉体的 X 射线衍射分析 | 第28-29页 |
| 3.1.2 TiC_(0.4)粉体的 SEM 与 EDS 分析 | 第29-30页 |
| 3.2 TiC_(0.4)不同温度的单相烧结 | 第30-33页 |
| 3.2.1 TiC_(0.4)烧结块体的 XRD 和微观形貌分析 | 第30-32页 |
| 3.2.2 TiC_(0.4)烧结块体的性能分析 | 第32-33页 |
| 3.3 TiC_(0.4)和 AlN 分层烧结的界面扩散现象 | 第33-35页 |
| 3.3.1 TiC_(0.4)/AlN 扩散界面的形貌观察 | 第33页 |
| 3.3.2 TiC_(0.4)/AlN 扩散界面的 EDS 分析 | 第33-35页 |
| 3.4 TiC_(0.4)和 TaC 分层烧结的界面扩散现象 | 第35-36页 |
| 3.4.1 TiC_(0.4)/TaC 扩散界面的形貌观察 | 第35-36页 |
| 3.4.2 TiC_(0.4)/TaC 扩散界面的 EDS 分析 | 第36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-38页 |
| 第4章 TiC_(0.4)与添加相的复合烧结 | 第38-56页 |
| 4.1 TiC_(0.4)和 AlN 的复合烧结 | 第38-46页 |
| 4.1.1 不同混料时间 TiC_(0.4)和 AlN 的复合烧结 | 第38-40页 |
| 4.1.2 不同配比 TiC_(0.4)和 AlN 的复合烧结 | 第40-43页 |
| 4.1.3 不同烧结温度 TiC_(0.4)和 AlN 的复合烧结 | 第43-46页 |
| 4.2 TiC_(0.4)和 TaC 的复合烧结 | 第46-50页 |
| 4.2.1 TaC 与不同 C 含量 TiCx的高压烧结 | 第46-47页 |
| 4.2.2 不同配比 TiC_(0.4)和 TaC 的复合烧结 | 第47-48页 |
| 4.2.3 不同保温时间 TiC_(0.4)和 TaC 的复合烧结 | 第48-50页 |
| 4.3 TiC_(0.4)/AlN/TaC 的三相烧结 | 第50-54页 |
| 4.3.1 不同保温时间的 TAT 三相烧结 | 第51-53页 |
| 4.3.2 不同原料配比的 TAT 三相烧结 | 第53-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 作者简介 | 第63页 |
