摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
1 综述 | 第14-27页 |
1.1 立方氮化硼(cBN)的结构与性能 | 第14-15页 |
1.2 PcBN的性能 | 第15-17页 |
1.3 PcBN的研究发展现状 | 第17-24页 |
1.3.1 结合剂材料 | 第17-18页 |
1.3.2 cBN的含量和粒度 | 第18-19页 |
1.3.3 合成设备及烧结工艺 | 第19页 |
1.3.4 PcBN的应用 | 第19-20页 |
1.3.5 国外研究现状 | 第20-22页 |
1.3.6 国内研究现状 | 第22-24页 |
1.4 有机聚硅氮烷(PSN)的性能与应用 | 第24-25页 |
1.5 本课题的研究思路、内容及创新点 | 第25-27页 |
1.5.1 研究思路 | 第25-26页 |
1.5.2 研究内容 | 第26页 |
1.5.3 创新点 | 第26-27页 |
2 高温高压法制备PcBN材料的工艺及性能研究 | 第27-46页 |
2.1 实验原料及所用设备 | 第27-28页 |
2.1.1 实验原料 | 第27页 |
2.1.2 实验设备 | 第27-28页 |
2.2 实验方法 | 第28-30页 |
2.2.1 cBN-SiCN粉末的制备 | 第29-30页 |
2.2.2 PcBN材料的制备 | 第30页 |
2.3 分析方法 | 第30-32页 |
2.3.1 物相分析 | 第30页 |
2.3.2 显微结构分析 | 第30页 |
2.3.3 样品密度与相对密度分析 | 第30-31页 |
2.3.4 力学性能分析 | 第31-32页 |
2.3.5 热稳定性分析 | 第32页 |
2.4 结果与讨论 | 第32-44页 |
2.4.1 聚合物先驱体PSN作结合剂的PcBN材料的性能分析 | 第32-37页 |
2.4.2 Al对PcBN材料性能的影响 | 第37-44页 |
2.5 本章小结 | 第44-46页 |
3 高能球磨法细化立方氮化硼晶粒的工艺研究 | 第46-57页 |
3.1 实验原料及所用设备 | 第46-47页 |
3.1.1 实验原料 | 第46页 |
3.1.2 实验设备 | 第46-47页 |
3.2 实验方法 | 第47页 |
3.3 分析方法 | 第47-48页 |
3.3.1 物相分析 | 第47页 |
3.3.2 粒径分析 | 第47页 |
3.3.3 比表面积分析 | 第47页 |
3.3.4 显微结构分析 | 第47-48页 |
3.3.5 氧含量分析 | 第48页 |
3.4 结果与讨论 | 第48-56页 |
3.4.1 高能球磨时间对杂质引入量的影响 | 第48-50页 |
3.4.2 高能球磨时间对立方氮化硼晶粒粒度的影响 | 第50-55页 |
3.4.3 高能球磨时间对立方氮化硼晶粒含氧量的影响 | 第55-56页 |
3.5 本章小结 | 第56-57页 |
4 高能球磨法制备cBN细晶粒对PcBN性能的影响 | 第57-66页 |
4.1 实验原料及所用设备 | 第57页 |
4.1.1 实验原料 | 第57页 |
4.1.2 实验设备 | 第57页 |
4.2 实验方法 | 第57-58页 |
4.2.1 cBN-SiCN粉末的制备 | 第58页 |
4.2.2 PcBN材料的制备 | 第58页 |
4.3 分析方法 | 第58页 |
4.4 结果与讨论 | 第58-65页 |
4.4.1 密度分析 | 第58-59页 |
4.4.2 硬度分析 | 第59-60页 |
4.4.3 物相分析 | 第60-62页 |
4.4.4 显微结构分析 | 第62-64页 |
4.4.5 抗弯强度分析 | 第64-65页 |
4.5 本章小结 | 第65-66页 |
5 放电等离子烧结法制备PcBN材料的工艺及性能研究 | 第66-73页 |
5.1 实验原料及所用设备 | 第66页 |
5.1.1 实验原料 | 第66页 |
5.1.2 实验设备 | 第66页 |
5.2 实验方法 | 第66-67页 |
5.2.1 cBN-SiCN粉末的制备 | 第67页 |
5.2.2 PcBN材料的制备 | 第67页 |
5.3 分析方法 | 第67-68页 |
5.4 结果与讨论 | 第68-72页 |
5.4.1 密度分析 | 第68页 |
5.4.2 物相分析 | 第68-70页 |
5.4.3 显微结构分析 | 第70-72页 |
5.4.4 抗弯强度分析 | 第72页 |
5.5 本章小结 | 第72-73页 |
6 结论 | 第73-75页 |
参考文献 | 第75-80页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第80-81页 |
致谢 | 第81页 |