| 摘要 | 第3-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 a-C:H薄膜的结构、性能及应用 | 第13-14页 |
| 1.2 a-C:H薄膜的制备 | 第14-17页 |
| 1.3 研究现状(存在问题,发展趋势) | 第17页 |
| 1.4 多层薄膜 | 第17-22页 |
| 1.4.1 同质多层非晶碳氢薄膜 | 第18页 |
| 1.4.2 异质多层非晶碳氢薄膜 | 第18-21页 |
| 1.4.2.1 金属非晶碳氢多层膜 | 第18-19页 |
| 1.4.2.2 金属化合物非晶碳氢多层膜 | 第19-20页 |
| 1.4.2.3 非金属非晶碳氢多层膜 | 第20-21页 |
| 1.4.3 其它 | 第21-22页 |
| 1.5 本课题选题依据 | 第22-23页 |
| 1.6 本课题研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 a-C:H多层薄膜的制备及其表征 | 第25-29页 |
| 2.1 实验制备材料及薄膜制备装置 | 第25-26页 |
| 2.2 薄膜的制备 | 第26-27页 |
| 2.3 结构表征 | 第27-28页 |
| 2.4 性能测试 | 第28-29页 |
| 第三章 Si/a-C:H多层薄膜的制备及其力学性能、摩擦学性能的研究 | 第29-41页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 实验部分 | 第29-30页 |
| 3.2.1 实验材料及薄膜的制备装置 | 第29页 |
| 3.2.2 薄膜的具体制备参数及表征 | 第29-30页 |
| 3.3 结果及讨论 | 第30-40页 |
| 3.3.1 薄膜结构及其形貌分析 | 第30-36页 |
| 3.3.1.1 薄膜FESEM分析 | 第30-31页 |
| 3.3.1.2 薄膜XPS分析 | 第31-33页 |
| 3.3.1.3 薄膜Raman分析 | 第33页 |
| 3.3.1.4 薄膜FTIR分析 | 第33-34页 |
| 3.3.1.5 薄膜XRD分析 | 第34-35页 |
| 3.3.1.6 薄膜AFM分析 | 第35-36页 |
| 3.3.2 薄膜力学性能分析 | 第36-37页 |
| 3.3.3 薄膜摩擦磨损性能分析 | 第37-40页 |
| 3.4 小结 | 第40-41页 |
| 第四章 Si/Ag-C:H多层膜的制备及其力学性能、摩擦学性能的研究 | 第41-59页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 实验部分 | 第41-42页 |
| 4.2.1 实验材料及薄膜的制备装置 | 第41页 |
| 4.2.2 薄膜的制备及其表征 | 第41-42页 |
| 4.3 结果及讨论 | 第42-56页 |
| 4.3.1 薄膜结构及其形貌分析 | 第42-52页 |
| 4.3.1.1 薄膜FESEM分析 | 第42-43页 |
| 4.3.1.2 薄膜XPS分析 | 第43-47页 |
| 4.3.1.3 薄膜Raman分析 | 第47-49页 |
| 4.3.1.4 薄膜FTIR分析 | 第49-50页 |
| 4.3.1.5 薄膜XRD分析 | 第50-51页 |
| 4.3.1.6 薄膜AFM分析 | 第51-52页 |
| 4.3.2 薄膜力学性能分析 | 第52-53页 |
| 4.3.3 薄膜摩擦磨损性能分析 | 第53-56页 |
| 4.4 小结 | 第56-59页 |
| 第五章 Si/Cu-C:H多层膜的制备、力学性能及其摩擦学性能的研究 | 第59-71页 |
| 5.1 引言 | 第59页 |
| 5.2 实验部分 | 第59-60页 |
| 5.2.1 实验制备材料及薄膜的制备装置 | 第59页 |
| 5.2.2 薄膜的制备及其表征 | 第59-60页 |
| 5.3 结果及讨论 | 第60-69页 |
| 5.3.1 薄膜结构及其形貌分析 | 第60-67页 |
| 5.3.1.1 薄膜FESEM分析 | 第60-61页 |
| 5.3.1.2 薄膜XPS分析 | 第61-64页 |
| 5.3.1.3 薄膜Raman分析 | 第64-66页 |
| 5.3.1.4 薄膜AFM分析 | 第66-67页 |
| 5.3.2 薄膜力学性能分析 | 第67-68页 |
| 5.3.3 薄膜摩擦磨损性能分析 | 第68-69页 |
| 5.4 小结 | 第69-71页 |
| 第六章 结论与展望 | 第71-73页 |
| 6.1 结论 | 第71-72页 |
| 6.2 展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 致谢 | 第79-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第81页 |
