| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 WO_3光催化材料 | 第8-10页 |
| 1.2.1 WO_3的晶体结构 | 第8-9页 |
| 1.2.2 WO_3的能带结构 | 第9-10页 |
| 1.3 WO_3光催化的影响因素 | 第10-11页 |
| 1.3.1 WO_3的光催化原理 | 第10-11页 |
| 1.3.2 WO_3光催化效率的影响因素 | 第11页 |
| 1.4 WO_3光催化效率的提升 | 第11-15页 |
| 1.4.1 提高WO_3电荷分离效率 | 第11-14页 |
| 1.4.2 提高WO_3表面活性位点贡献率 | 第14-15页 |
| 1.5 本论文的选题依据与研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 W@WO_3欧姆结及其光催化性能研究 | 第17-31页 |
| 2.1 引言 | 第17-18页 |
| 2.2 实验部分 | 第18-19页 |
| 2.2.1 W@WO_3复合物的制备 | 第18-19页 |
| 2.2.2 W@WO_3复合物的实验表征 | 第19页 |
| 2.2.3 W@WO_3复合物的光催化实验 | 第19页 |
| 2.2.4 W@WO_3复合物的光电测试 | 第19页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第19-30页 |
| 2.3.1 W@WO_3复合物的晶体结构与形貌研究 | 第19-24页 |
| 2.3.2 W@WO_3复合物的光学性质研究 | 第24-25页 |
| 2.3.3 W@WO_3复合物的光催化性能研究 | 第25-29页 |
| 2.3.4 W@WO_3欧姆结的机理分析 | 第29-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 表面WO_3纳米片调控及其光催化性能研究 | 第31-39页 |
| 3.1 引言 | 第31-32页 |
| 3.2 实验部分 | 第32-33页 |
| 3.2.1 各尺寸WO_3纳米片的制备 | 第32页 |
| 3.2.2 各尺寸WO_3纳米片的实验表征 | 第32页 |
| 3.2.3 各尺寸WO_3纳米片的光催化实验 | 第32-33页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第33-38页 |
| 3.3.1 各尺寸WO_3纳米片的晶体结构研究 | 第33-34页 |
| 3.3.2 WO_3纳米片的形貌研究 | 第34-35页 |
| 3.3.3 WO_3纳米片的光学性质研究 | 第35-36页 |
| 3.3.4 WO_3纳米片的孔结构研究 | 第36-37页 |
| 3.3.5 WO_3纳米片的光催化性能研究 | 第37页 |
| 3.3.6 WO_3纳米片光催化机理分析 | 第37-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 结论 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 在学期间学术成果 | 第48页 |