| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 纳米科技和纳米材料 | 第11页 |
| 1.2 纳米陶瓷 | 第11-13页 |
| 1.2.1 纳米陶瓷的力学性能 | 第12-13页 |
| 1.2.2 纳米陶瓷良好的烧结性能 | 第13页 |
| 1.3 氧化铝陶瓷 | 第13-20页 |
| 1.3.1 Al_2O_3的结构 | 第13-15页 |
| 1.3.2 氧化铝的相变过程 | 第15-16页 |
| 1.3.3 纳米氧化铝粉体的应用 | 第16-17页 |
| 1.3.4 纳米氧化铝粉体的制备 | 第17-20页 |
| 1.4 本论文选题依据、研究内容 | 第20-21页 |
| 1.4.1 选题依据 | 第20-21页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第21页 |
| 1.5 本论文的创新点 | 第21-22页 |
| 参考文献 | 第22-24页 |
| 第2章 样品制备及表征 | 第24-31页 |
| 2.1 实验试剂及仪器 | 第24-25页 |
| 2.2 实验方案设计 | 第25-26页 |
| 2.2.1 均相沉淀法 | 第25页 |
| 2.2.2 非均相沉淀法 | 第25-26页 |
| 2.3 样品表征 | 第26-30页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第26-27页 |
| 2.3.2 扫描电镜 | 第27-28页 |
| 2.3.3 差热/热重分析(TG/DTA) | 第28页 |
| 2.3.4 傅里叶变换红外光谱(FTIR)分析 | 第28-30页 |
| 参考文献 | 第30-31页 |
| 第3章 均相沉淀法制备纳米氧化铝粉体 | 第31-43页 |
| 3.1 样品的制备 | 第31-32页 |
| 3.1.1 实验步骤 | 第31-32页 |
| 3.1.2 实验准备 | 第32页 |
| 3.2 反应机理 | 第32-33页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第33-41页 |
| 3.3.1 前驱体的相变研究 | 第33-34页 |
| 3.3.2 前驱体及其不同温度下煅烧后的样品的红外分析 | 第34-35页 |
| 3.3.3 前驱体的TG-DTA分析 | 第35-36页 |
| 3.3.4 铝离子浓度对前驱体的影响 | 第36-37页 |
| 3.3.5 反应时间及沉淀剂浓度对前驱体的影响 | 第37-40页 |
| 3.3.6 前驱体煅烧过程分析 | 第40-41页 |
| 3.4 小结 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-43页 |
| 第4章 非均相沉淀法制备纳米氧化铝粉体 | 第43-55页 |
| 4.1 样品的制备 | 第43-44页 |
| 4.1.1 实验步骤 | 第43-44页 |
| 4.1.2 实验准备 | 第44页 |
| 4.2 实验机理 | 第44-45页 |
| 4.3 实验结果与分析 | 第45-53页 |
| 4.3.1 pH值对前驱体的影响 | 第45-47页 |
| 4.3.2 铝离子浓度对前驱体的影响 | 第47-48页 |
| 4.3.3 前驱体的相变研究 | 第48-49页 |
| 4.3.4 前驱体的红外分析 | 第49页 |
| 4.3.5 前驱体的TG-DTA分析 | 第49-50页 |
| 4.3.6 干燥方式对前驱体的影响 | 第50-51页 |
| 4.3.7 前驱体煅烧过程分析 | 第51-53页 |
| 4.4 小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第5章 结论与展望 | 第55-57页 |
| 5.1 结论 | 第55-56页 |
| 5.2 展望 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |