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粒子场的聚焦两点像测量方法研究

中文摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第一章 绪论第9-13页
    1.1 粒子场的测量意义第9页
    1.2 干涉粒子成像测量(IPI)技术的国内外发展状况第9-12页
    1.3 课题来源及论文的主要工作第12页
    1.4 小结第12-13页
第二章 干涉粒子成像测量原理与测量系统分析第13-28页
    2.1 粒子散射光强分布计算第13-15页
    2.2 IPI 成像基本原理第15-20页
        2.2.1 单光束照射 IPI 测量公式第16-17页
        2.2.2 IPI 测量系统放大倍率校正第17-19页
        2.2.3 双光束照射 IPI 测量公式第19-20页
    2.3 双光束照射 IPI 测量系统分析第20-26页
        2.3.1 可测粒子直径范围第20-23页
        2.3.2 粒径测量不确定度分析第23-26页
    2.4 粒子速度测量基本原理第26页
    2.5 小结第26-28页
第三章 粒子离焦像与聚焦像图像处理算法第28-58页
    3.1 引言第28-29页
    3.2 粒子离焦像处理算法第29-45页
        3.2.1 干涉条纹图定位算法第30页
        3.2.2 基于傅里叶变换和 m-Rife 的条纹频率提取算法第30-31页
        3.2.3 数值模拟分析第31-45页
    3.3 粒子聚焦像处理算法第45-54页
        3.3.1 聚焦像定位算法第46-48页
        3.3.2 两点像之间的距离提取方法第48-49页
        3.3.3 数值模拟分析第49-54页
    3.4 粒子速度测量第54-57页
        3.4.1 粒子离焦像速度模拟测量第55页
        3.4.2 粒子聚焦像速度模拟测量第55-57页
    3.5 小结第57-58页
第四章 标准粒子尺寸与速度测量第58-72页
    4.1 双光路 IPI 实验光路系统搭建第58-59页
    4.2 标准粒子场测量第59-70页
        4.2.1 粒子尺寸测量第59-68页
        4.2.2 粒子速度测量第68-70页
    4.3 小结第70-72页
第五章 总结与展望第72-74页
    5.1 论文研究成果第72-73页
    5.2 研究工作展望第73-74页
参考文献第74-79页
发表论文和科研情况说明第79-80页
致谢第80页

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