| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 挥发性有机化合物（VOCs）概述 | 第11页 |
| 1.2 VOCs定义、来源及危害 | 第11-13页 |
| 1.3 VOCs的控制技术 | 第13-16页 |
| 1.3.1 源头治理技术 | 第13页 |
| 1.3.2 末端治理技术 | 第13-16页 |
| 1.4 低温等离子体法 | 第16-22页 |
| 1.4.1 低温等离子体概念及产生方式 | 第16-18页 |
| 1.4.2 低温等离子体降解VOCs的原理 | 第18-19页 |
| 1.4.3 低温等离子体催化法 | 第19-21页 |
| 1.4.4 低温等离子体催化系统的主要工艺参数 | 第21-22页 |
| 1.4.5 VOCs的等离子体催化降解机理的研究 | 第22页 |
| 1.5 研究目的、意义及主要内容 | 第22-25页 |
| 1.5.1 研究目的与意义 | 第22-23页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 催化剂的制备及表征 | 第25-32页 |
| 2.1 实验材料及装置 | 第25-26页 |
| 2.1.1 化学试剂及气体 | 第25页 |
| 2.1.2 主要实验仪器 | 第25-26页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第26-27页 |
| 2.3 催化剂表征方法 | 第27-29页 |
| 2.3.1 比表面积和孔隙结构分析（BET） | 第27页 |
| 2.3.2 X射线衍射分析方法（XRD） | 第27页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱分析（XPS） | 第27页 |
| 2.3.4 H_2-程序升温还原（H_2-TPR） | 第27-28页 |
| 2.3.5 NH_3-程序升温脱附（NH_3-TPD） | 第28页 |
| 2.3.6 Toluene-程序升温脱附（Toluene-TPD） | 第28页 |
| 2.3.7 色谱—质谱仪(GC-MS) | 第28-29页 |
| 2.3.8 原位红外光谱分析(FT-IR) | 第29页 |
| 2.4 反应器及评价装置 | 第29-31页 |
| 2.4.1 介质阻挡放电反应器 | 第29-30页 |
| 2.4.2 评价装置 | 第30-31页 |
| 2.5 计算所需公式 | 第31页 |
| 2.6 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 硅铝比对ZSM-5 协同低温等离子体降解甲苯性能的影响 | 第32-45页 |
| 3.1 引言 | 第32-33页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第33-44页 |
| 3.2.1 材料表征 | 第33-38页 |
| 3.2.2 甲苯吸附及降解性能评价 | 第38-40页 |
| 3.2.3 不同硅铝比ZSM对有机副产物的影响 | 第40-41页 |
| 3.2.4 催化剂稳定性评价 | 第41-44页 |
| 3.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 氧化镍对不同硅铝比ZSM-5 协同低温等离子体降解甲苯性能的影响 | 第45-60页 |
| 4.1 引言 | 第45-46页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第46-59页 |
| 4.2.1 材料表征 | 第46-53页 |
| 4.2.2 甲苯吸附及降解性能评价 | 第53-55页 |
| 4.2.3 不同硅铝比Ni/ZSM对有机副产物的影响 | 第55-57页 |
| 4.2.4 催化剂稳定性评价 | 第57-59页 |
| 4.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 甲苯降解过程中的原位研究 | 第60-72页 |
| 5.1 引言 | 第60页 |
| 5.2 等离子体原位红外反应器 | 第60-61页 |
| 5.3 原位红外实验步骤 | 第61-63页 |
| 5.4 结果与分析 | 第63-71页 |
| 5.4.1 甲苯在催化剂表面吸附的红外光谱 | 第63-66页 |
| 5.4.2 甲苯在催化剂表面放电的红外光谱 | 第66-70页 |
| 5.4.3 尾气中的有机物 | 第70-71页 |
| 5.5 本章小结 | 第71-72页 |
| 结论与展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-82页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第82-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 附件 | 第85页 |
