工业纯铝阳极氧化膜阻挡层特性及其电沉积镍纳米线的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-34页 |
| 1.1 研究背景 | 第11页 |
| 1.2 AAO模板 | 第11-16页 |
| 1.2.1 AAO模板简介 | 第11-12页 |
| 1.2.2 AAO模板的制备 | 第12-14页 |
| 1.2.3 AAO模板制备纳米材料 | 第14-16页 |
| 1.3 AAO模板的阻挡层特性 | 第16-20页 |
| 1.3.1 阻挡层的形成机理 | 第16-18页 |
| 1.3.2 阻挡层的半导体性质 | 第18-19页 |
| 1.3.3 阻挡层与肖特基二极管 | 第19-20页 |
| 1.4 电沉积制备纳米线 | 第20-24页 |
| 1.4.1 化学镀 | 第20-21页 |
| 1.4.2 交流电沉积法 | 第21页 |
| 1.4.3 直流电沉积法 | 第21-23页 |
| 1.4.4 脉冲电沉积法 | 第23-24页 |
| 1.5 课题的提出与实验方案 | 第24-26页 |
| 1.5.1 课题的提出 | 第24-25页 |
| 1.5.2 实验方案 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-34页 |
| 第二章 实验方法与表征手段 | 第34-40页 |
| 2.1 AAO模板的制备 | 第34-36页 |
| 2.1.1 实验材料与试剂 | 第34页 |
| 2.1.2 阳极氧化装置与仪器 | 第34-35页 |
| 2.1.3 工艺流程 | 第35-36页 |
| 2.2 沉积实验 | 第36-38页 |
| 2.2.1 化学镀 | 第36页 |
| 2.2.2 电沉积 | 第36-38页 |
| 2.3 性能测试和表征方法 | 第38-39页 |
| 2.3.1 显微形貌表征 | 第38页 |
| 2.3.2 电化学性能测试 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-40页 |
| 第三章 AAO模板制备与阻挡层特性 | 第40-59页 |
| 3.1 前言 | 第40页 |
| 3.2 AAO模板的制备 | 第40-42页 |
| 3.3 AAO模板形貌分析 | 第42-44页 |
| 3.4 AAO模板阻挡层特性分析 | 第44-50页 |
| 3.4.1 AAO模板阻挡层伏安特性研究 | 第44-46页 |
| 3.4.2 AAO模板阻挡层半导体特性研究 | 第46-50页 |
| 3.5 基于AAO模板化学镀制备纳米线 | 第50-55页 |
| 3.5.1 AAO模板孔径对沉积的影响 | 第51-53页 |
| 3.5.2 AAO模板阻挡层特性对沉积的影响 | 第53-54页 |
| 3.5.3 AAO模板铝基底对沉积的影响 | 第54页 |
| 3.5.4 反应时间对沉积的影响 | 第54-55页 |
| 3.6 本章小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 第四章 基于AAO模板电沉积制备镍纳米线 | 第59-78页 |
| 4.1 前言 | 第59页 |
| 4.2 AAO模板阻挡层特性对电沉积的影响 | 第59-63页 |
| 4.3 AAO模板厚度对电沉积的影响 | 第63-65页 |
| 4.4 电沉积方法对模板填充率的影响 | 第65-76页 |
| 4.4.1 直流电沉积 | 第65-67页 |
| 4.4.2 脉冲电沉积 | 第67-73页 |
| 4.4.3 脉冲-直流电沉积 | 第73-76页 |
| 4.5 本章小结 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-78页 |
| 全文总结 | 第78-80页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 附件 | 第82页 |
