摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
注释表 | 第11-12页 |
缩略词 | 第12-13页 |
第一章 绪论 | 第13-23页 |
1.1 论文研究背景介绍 | 第13-17页 |
1.1.1 螺旋波等离子体源 | 第13-14页 |
1.1.2 等离子体加热方法 | 第14-17页 |
1.2 国内外研究进展 | 第17-22页 |
1.2.1 磁约束装置 | 第17-20页 |
1.2.2 螺旋波等离子体电推进装置 | 第20-22页 |
1.3 论文研究意义 | 第22页 |
1.4 论文主要研究工作及内容安排 | 第22-23页 |
第二章 单端磁镜场中共振区与截止区理论分析 | 第23-32页 |
2.1 等离子体波色散方程 | 第23-27页 |
2.1.1 带电介质中波的色散方程 | 第23-24页 |
2.1.2 冷等离子体波色散方程 | 第24-26页 |
2.1.3 低混杂波的色散方程 | 第26-27页 |
2.2 共振条件与截止条件 | 第27页 |
2.3 磁镜场 | 第27-30页 |
2.3.1 磁镜场结构 | 第27-29页 |
2.3.2 磁矩不变性 | 第29-30页 |
2.3.3 磁镜场中等离子体数密度分布情况 | 第30页 |
2.4 磁镜场中低混杂波的共振与截止条件 | 第30-31页 |
2.4.1 单离子共振与截止条件 | 第30-31页 |
2.4.2 双离子共振与截止条件 | 第31页 |
2.5 小结 | 第31-32页 |
第三章 单端磁镜场中低混杂波加热共振区与截止区特性研究 | 第32-41页 |
3.1 单离子模型 | 第32-36页 |
3.1.1 共振区与截止区随波频率变化情况 | 第32-33页 |
3.1.2 共振区与截止区随磁场强度变化情况 | 第33-34页 |
3.1.3 共振区与截止区随数密度变化情况 | 第34-36页 |
3.2 双离子模型 | 第36-40页 |
3.2.1 共振区与截止区随离子成分变化情况 | 第36页 |
3.2.2 共振区与截止区随波频率变化情况 | 第36-38页 |
3.2.3 共振区与截止区随磁场强度变化情况 | 第38-39页 |
3.2.4 共振区与截止区随数密度变化情况 | 第39-40页 |
3.3 本章小结 | 第40-41页 |
第四章 单端磁镜场中低混杂波加热数值模拟 | 第41-60页 |
4.1 等离子体描述方法 | 第41-43页 |
4.2 混合模拟方法 | 第43-52页 |
4.3 模拟结果分析 | 第52-59页 |
4.4 本章小结 | 第59-60页 |
第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
5.1 工作总结 | 第60-61页 |
5.2 展望 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-68页 |
致谢 | 第68-69页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第69页 |