| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 石墨烯的研究进展 | 第10-15页 |
| 1.2.1 石墨烯的结构 | 第10-12页 |
| 1.2.2 石墨烯的性质 | 第12-13页 |
| 1.2.3 石墨烯在催化领域的应用 | 第13-15页 |
| 1.3 石墨烯的化学修饰 | 第15-16页 |
| 1.3.1 石墨烯的掺杂 | 第15-16页 |
| 1.3.2 石墨烯的官能化 | 第16页 |
| 1.3.3 缺陷石墨烯的研究进展 | 第16页 |
| 1.4 本论文的研究意义和内容 | 第16-18页 |
| 第2章 理论化学方法 | 第18-22页 |
| 2.1 密度泛函理论 | 第18-20页 |
| 2.1.1 Thomas-Fermi模型 | 第18-19页 |
| 2.1.2 Hohenberg-Kohn定理 | 第19页 |
| 2.1.3 Kohn-Sham方程 | 第19-20页 |
| 2.1.4 交换相关能泛函 | 第20页 |
| 2.2 本论文所使用的软件 | 第20-22页 |
| 2.2.1 Dmol3简介 | 第21页 |
| 2.2.2 函数 | 第21页 |
| 2.2.3 基组 | 第21-22页 |
| 第3章 O_2分子在单缺陷硼氮石墨烯上氧化反应的理论研究 | 第22-32页 |
| 3.1 研究背景 | 第22页 |
| 3.2 计算方法 | 第22-23页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第23-31页 |
| 3.3.1 单缺陷硼氮石墨烯的性质 | 第23-25页 |
| 3.3.2 单缺陷硼氮石墨烯的氧化 | 第25-31页 |
| 3.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第4章 O_2分子在多缺陷硼氮石墨烯上氧化反应的理论研究 | 第32-40页 |
| 4.1 研究背景 | 第32页 |
| 4.2 计算方法 | 第32-33页 |
| 4.3 结果和讨论 | 第33-39页 |
| 4.3.1 多缺陷硼氮石墨烯的结构和性质 | 第33-34页 |
| 4.3.2 多缺陷硼氮石墨烯的氧化反应研究 | 第34-39页 |
| 4.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第5章 NO_2分子在单缺陷硼氮石墨烯上进行缺陷修复的理论研究 | 第40-52页 |
| 5.1 研究背景 | 第40-41页 |
| 5.2 计算方法 | 第41页 |
| 5.3 结果和讨论 | 第41-50页 |
| 5.3.1 NO_2分子在硼氮石墨烯上的吸附 | 第41-46页 |
| 5.3.2 O_2分子掺杂硼氮石墨烯 | 第46-48页 |
| 5.3.3 硼氮石墨烯的修复理论的研究 | 第48-50页 |
| 5.4 本章小结 | 第50-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
