| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 1 绪论 | 第11-20页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 ZnO材料 | 第12-16页 |
| 1.2.1 基本性质 | 第12-14页 |
| 1.2.2 制备方法 | 第14-16页 |
| 1.3 Cu_2O材料 | 第16-18页 |
| 1.3.1 基本性质 | 第16-17页 |
| 1.3.2 制备方法 | 第17-18页 |
| 1.4 本课题的研究目的及意义 | 第18-20页 |
| 2 电沉积制备氧化锌纳米棒 | 第20-36页 |
| 2.1 引言 | 第20-21页 |
| 2.2 实验部分 | 第21-22页 |
| 2.2.1 实验药品和仪器 | 第21页 |
| 2.2.2 实验步骤 | 第21-22页 |
| 2.3 材料表征方法 | 第22-23页 |
| 2.4 实验结果与分析 | 第23-33页 |
| 2.4.1 基底的预处理对纳米ZnO形貌的影响 | 第23-25页 |
| 2.4.2 不同沉积时间对电沉积纳米ZnO的影响 | 第25-26页 |
| 2.4.3 不同沉积电位对电沉积纳米ZnO的影响 | 第26-28页 |
| 2.4.4 不同Zn~(2+)浓度对电沉积纳米ZnO的影响 | 第28-30页 |
| 2.4.5 表面活性剂对电沉积纳米ZnO的影响 | 第30-31页 |
| 2.4.6 利用DNA-CTMA聚合物辅助ZnO电沉积的尝试 | 第31-33页 |
| 2.5 ZnO纳米棒的电流-时间曲线 | 第33-34页 |
| 2.6 本章小结 | 第34-36页 |
| 3 电沉积制备氧化亚铜纳米薄膜 | 第36-50页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 实验部分 | 第36-37页 |
| 3.2.1 实验试剂及仪器 | 第36-37页 |
| 3.2.2 实验过程 | 第37页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第37-46页 |
| 3.3.1 不同沉积时间的影响 | 第37-39页 |
| 3.3.2 不同沉积电压的影响 | 第39-41页 |
| 3.3.3 不同pH值的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.4 不同浓度NaCl的影响 | 第42-44页 |
| 3.3.5 不同CTAB浓度的影响 | 第44-46页 |
| 3.4 电沉积Cu_2O薄膜的紫外-可见吸收图谱 | 第46-47页 |
| 3.5 电沉积Cu_2O纳米薄膜的氧化还原特性 | 第47-48页 |
| 3.6 本章小结 | 第48-50页 |
| 4 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 作者简历及攻读硕士/博士学位期间取得的研究成果 | 第55-57页 |
| 学位论文数据集 | 第57页 |