| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 课题的研究背景 | 第11-17页 |
| 1.2 微弧氧化技术的发展现状 | 第17-23页 |
| 1.2.1 浸入式微弧氧化技术研究现状 | 第17-20页 |
| 1.2.2 扫描式微弧氧化技术研究现状 | 第20-23页 |
| 1.3 课题主要研究内容 | 第23-24页 |
| 2 ALSI7MG0.3合金的扫描式微弧氧化工艺 | 第24-41页 |
| 2.1 扫描式微弧氧化装置设计 | 第24-26页 |
| 2.2 实验方法 | 第26-30页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第26页 |
| 2.2.2 微弧氧化设备 | 第26-28页 |
| 2.2.3 微弧氧化工艺流程 | 第28-29页 |
| 2.2.4 电解液体系 | 第29页 |
| 2.2.5 交实验设计 | 第29页 |
| 2.2.6 陶瓷层分析手段 | 第29-30页 |
| 2.3 扫描式微弧氧化电源 | 第30-32页 |
| 2.3.1 直流电源测试 | 第31-32页 |
| 2.3.2 交流电源测试 | 第32页 |
| 2.4 工艺参数的影响 | 第32-37页 |
| 2.4.1 阴极传动速度的影响 | 第34-35页 |
| 2.4.2 阴阳极间距离与电源档位的影响 | 第35-37页 |
| 2.5 陶瓷层叠加实验 | 第37-40页 |
| 2.6 本章小结 | 第40-41页 |
| 3 浸入式与扫描式微弧氧化陶瓷层组织与性能对比研究 | 第41-57页 |
| 3.1 陶瓷层生长速率 | 第41-42页 |
| 3.2 陶瓷层微观形貌 | 第42-48页 |
| 3.2.1 表面形貌 | 第42-45页 |
| 3.2.2 截面形貌 | 第45-48页 |
| 3.3 陶瓷层组成分析 | 第48-53页 |
| 3.3.1 陶瓷层的元素组成 | 第48-51页 |
| 3.3.2 陶瓷层相组成 | 第51-53页 |
| 3.4 陶瓷层显微硬度 | 第53页 |
| 3.5 陶瓷层耐腐蚀性能分析 | 第53-55页 |
| 3.6 本章小结 | 第55-57页 |
| 4 扫描式微弧氧化成膜机理 | 第57-73页 |
| 4.1 扫描式微弧氧化弧光放电原理 | 第57-60页 |
| 4.2 扫描式微弧氧化过程中化学与电化学反应 | 第60-63页 |
| 4.3 扫描式微弧氧化中的电场电源特性 | 第63-70页 |
| 4.4 扫描式微弧氧化的成膜分析 | 第70-72页 |
| 4.5 本章小结 | 第72-73页 |
| 5 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 学位论文数据集 | 第78页 |