| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第9页 |
| 1.2 选区激光熔化工艺简介 | 第9-12页 |
| 1.2.1 选区激光熔化技术原理及特点 | 第9-11页 |
| 1.2.2 选区激光熔化技术的应用 | 第11-12页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第12-21页 |
| 1.3.1 选区激光熔化工艺技术研究现状 | 第12-14页 |
| 1.3.2 选区激光熔化熔池特征的研究现状 | 第14-16页 |
| 1.3.3 激光成型技术中传质规律的研究现状 | 第16-19页 |
| 1.3.4 镍基合金偏析的研究现状 | 第19-21页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 选区激光熔化过程有限元分析及实验方法 | 第22-33页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 SLM流场数值模拟基本理论 | 第22-30页 |
| 2.2.1 控制方程组 | 第22-23页 |
| 2.2.2 VOF(Volume of Fluent)模型 | 第23页 |
| 2.2.3 移动热源模型与加载 | 第23-27页 |
| 2.2.4 初始条件和边界条件 | 第27-28页 |
| 2.2.5 热物性参数的确定 | 第28-29页 |
| 2.2.6 相变潜热的处理 | 第29-30页 |
| 2.3 实验验证方法 | 第30-32页 |
| 2.3.1 微熔池中流体运动实验验证 | 第30-31页 |
| 2.3.2 微熔池偏析实验 | 第31-32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 选区激光熔化微熔池温度场与流场分布 | 第33-41页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 物理模型及有限元模型的建立 | 第33-35页 |
| 3.2.1 物理模型的建立 | 第33-34页 |
| 3.2.2 有限元模型的建立 | 第34页 |
| 3.2.3 基本假设 | 第34-35页 |
| 3.3 选区激光熔化微熔池内典型温度场和流场特征 | 第35-37页 |
| 3.3.1 温度场特征 | 第35-36页 |
| 3.3.2 流场特征 | 第36-37页 |
| 3.4 熔池内流体运动试验结果 | 第37-38页 |
| 3.5 传质过程实验分析 | 第38-39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 选区激光熔化传质结果分析 | 第41-61页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 单道扫描策略研究 | 第41-48页 |
| 4.2.1 激光功率对传质的影响 | 第41-45页 |
| 4.2.2 扫描速度对传质的影响 | 第45-48页 |
| 4.3 单层多道扫描策略研究 | 第48-60页 |
| 4.3.1 扫描间距对传质的影响 | 第48-52页 |
| 4.3.2 激光功率对传质的影响 | 第52-56页 |
| 4.3.3 扫描速度对传质的影响 | 第56-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 第5章 选区激光熔化微熔池偏析的研究 | 第61-70页 |
| 5.1 引言 | 第61页 |
| 5.2 单层单道扫描策略研究 | 第61-64页 |
| 5.2.1 激光功率对偏析的影响 | 第61-62页 |
| 5.2.2 扫描速度对偏析的影响 | 第62-64页 |
| 5.3 单层多道扫描策略研究 | 第64-69页 |
| 5.3.1 扫描间距对偏析的影响 | 第64-66页 |
| 5.3.2 激光功率对偏析的影响 | 第66-67页 |
| 5.3.3 扫描速度对偏析的影响 | 第67-69页 |
| 5.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 致谢 | 第77页 |