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活性剂辅助激光焊接组织性能研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第10-17页
    1.1 活性剂的研究现状第10-11页
    1.2 活性剂增加焊接熔深机理的研究现状第11-14页
        1.2.1 电弧的收缩理论第11-12页
        1.2.2 表面张力梯度改变原理第12-13页
        1.2.3 熔深增加的主要机理第13-14页
    1.3 活性剂辅助激光焊的研究现状第14-15页
    1.4 主要研究内容和目的第15-17页
第2章 试验材料及试验方法第17-22页
    2.1 试验材料第17页
    2.2 试验工艺方法第17-18页
    2.3 试验研究方法第18-19页
        2.3.1 活性剂辅助激光焊与半导体激光焊对比试验第18页
        2.3.2 活性剂辅助激光焊与光纤激光焊对比试验第18-19页
        2.3.3 高速摄像采集和观察激光等离子体第19页
    2.4 试验分析方法第19-20页
        2.4.1 金相组织分析第19页
        2.4.2 能谱分析第19-20页
        2.4.3 力学性能分析第20页
        2.4.4 断口形貌分析第20页
    2.5 本章小结第20-22页
第3章 活性剂在半导体激光焊接中的试验研究第22-37页
    3.1 半导体激光焊接设备第22-24页
    3.2 活性剂辅助激光焊与常规半导体激光焊焊缝成形对比分析第24-28页
    3.4 活性剂辅助激光焊与常规半导体激光焊显微组织对比分析第28-30页
    3.5 活性剂辅助激光焊与半导体激光焊接头成分对比分析第30-35页
    3.6 本章小结第35-37页
第4章 活性剂在光纤激光焊接中的试验研究第37-49页
    4.1 光纤激光焊接装置及试验方法第37-39页
    4.2 活性剂辅助激光焊与常规光纤激光焊焊缝成形的对比分析第39-42页
    4.3 活性剂辅助光纤焊与常规光纤焊焊缝显微组织的对比分析第42-43页
    4.4 活性剂辅助光纤激光焊接接头拉伸试验以及断口形貌分析第43-45页
    4.5 高速摄影图像采集与分析第45-47页
    4.6 本章小结第47-49页
结论第49-50页
参考文献第50-55页
致谢第55页

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