| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 阴极电弧蒸发镀研究发展概况 | 第12-17页 |
| 1.2.1 国内研究发展概况 | 第14页 |
| 1.2.2 国外研究现状及发展动态 | 第14-17页 |
| 1.3 阴极电弧蒸发镀技术应用概况 | 第17-18页 |
| 1.4 课题研究目的与内容 | 第18-19页 |
| 第2章 等离子体与模拟软件介绍 | 第19-30页 |
| 2.1 等离子体介绍 | 第19-25页 |
| 2.1.1 等离子体定义 | 第19-20页 |
| 2.1.2 等离子体分类 | 第20-21页 |
| 2.1.3 等离子体技术发展史 | 第21-22页 |
| 2.1.4 等离子体应用 | 第22-25页 |
| 2.1.5 COMSOL Multiphysics等离子体模拟分析 | 第25页 |
| 2.2 模拟软件COMSOL MULTIPHYSICS | 第25-29页 |
| 2.2.1 COMSOL Multiphysics软件的显著特点 | 第26-27页 |
| 2.2.2 COMSOL Multiphysics软件提供多种可供选择的模块 | 第27-29页 |
| 2.2.3 COMSOL Multiphysics软件的外部整合接口与多种操作平台 | 第29页 |
| 2.3 本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 弧光放电过程模拟分析 | 第30-45页 |
| 3.1 放电模拟的理论基础 | 第30-31页 |
| 3.1.1 等离子体化学 | 第30页 |
| 3.1.2 域方程 | 第30-31页 |
| 3.2 弧光放电 | 第31-33页 |
| 3.2.1 弧光放电机理 | 第32-33页 |
| 3.3 弧光放电模拟结果与分析 | 第33-44页 |
| 3.3.1 单个弧斑尖角弧光放电模拟结果 | 第35-39页 |
| 3.3.2 环形弧斑尖角弧光放电模拟结果 | 第39-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 附加磁场的模拟分析 | 第45-59页 |
| 4.1 单个磁钢磁场模拟 | 第45-47页 |
| 4.2 磁场组件磁场模拟 | 第47-54页 |
| 4.3 磁柱磁场与磁环磁场的对比研究 | 第54-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 附加磁场对放电过程的影响 | 第59-67页 |
| 5.1 带电粒子在磁场中的运动 | 第59-61页 |
| 5.2 组件磁场对弧斑力的作用分析 | 第61-66页 |
| 5.2.1 固定位置组件磁场对弧斑的作用分析 | 第61-63页 |
| 5.2.2 不同位置组件磁场对弧斑的作用分析 | 第63-66页 |
| 5.3 本章小结 | 第66-67页 |
| 第6章 结论与展望 | 第67-70页 |
| 6.1 结论 | 第67-68页 |
| 6.2 展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
