| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 研究背景和发展现状 | 第11-13页 |
| 1.2 钙钛矿氧化物的基本结构 | 第13-16页 |
| 1.2.1 晶体结构 | 第13-14页 |
| 1.2.2 电子结构 | 第14-15页 |
| 1.2.3 磁结构 | 第15-16页 |
| 1.3 钙钛矿氧化物的物理性质 | 第16-19页 |
| 1.3.1 双交换作用 | 第16-17页 |
| 1.3.2 Jahn-Teller效应 | 第17-18页 |
| 1.3.3 相分离 | 第18-19页 |
| 1.4 锰氧化物的场调控 | 第19-22页 |
| 1.4.1 磁场 | 第19-20页 |
| 1.4.2 电场 | 第20-21页 |
| 1.4.3 电流 | 第21页 |
| 1.4.4 晶格应变 | 第21-22页 |
| 1.4.5 光场 | 第22页 |
| 1.5 异质结 | 第22-25页 |
| 1.5.1 p-n结 | 第23页 |
| 1.5.2 肖特基结 | 第23-24页 |
| 1.5.3 异质结 | 第24-25页 |
| 1.6 本论文的主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 样品的制备、结构表征与性能测试 | 第27-34页 |
| 2.1 样品的制备 | 第27-29页 |
| 2.1.1 靶材的制备 | 第27页 |
| 2.1.2 薄膜的制备 | 第27-29页 |
| 2.2 薄膜的结构表征 | 第29-31页 |
| 2.2.1 X射线衍射（XRD） | 第29-30页 |
| 2.2.2 原子力显微镜（AFM） | 第30-31页 |
| 2.3 薄膜的性能测试 | 第31-34页 |
| 2.3.1 物性测量系统（PPMS） | 第31-32页 |
| 2.3.2 光学低温平台 | 第32-34页 |
| 第三章 退火条件对薄膜的影响 | 第34-39页 |
| 3.1 样品的制备 | 第34-36页 |
| 3.1.1 靶材的制备与测试 | 第34-35页 |
| 3.1.2 薄膜的制备与测试 | 第35-36页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第36-39页 |
| 3.2.1 退火氧压对薄膜的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.2 退火时间对薄膜的影响 | 第37-39页 |
| 第四章 薄膜的制备、表征与场调控 | 第39-47页 |
| 4.1 La_(0.9)Hf_(0.1)MnO_3薄膜的制备 | 第39页 |
| 4.2 La_(0.9)Hf_(0.1)MnO_3薄膜的晶体结构表征和形貌表征 | 第39-42页 |
| 4.2.1 薄膜的晶体结构表征 | 第39-41页 |
| 4.2.2 薄膜的形貌表征 | 第41-42页 |
| 4.3 La_(0.9)Hf_(0.1)MnO_3薄膜的场调控 | 第42-47页 |
| 4.3.1 应力场对薄膜输运特性的影响 | 第42-43页 |
| 4.3.2 应力场和光场对薄膜输运特性的影响 | 第43-45页 |
| 4.3.3 磁场对薄膜输运特性的影响 | 第45-47页 |
| 第五章 异质结的制备与性能测试 | 第47-51页 |
| 5.1 异质结的制备 | 第47页 |
| 5.2 异质结LHMO/NSTO的研究 | 第47-51页 |
| 5.2.1 异质结的整流效应 | 第47-49页 |
| 5.2.2 异质结的光电效应 | 第49-50页 |
| 5.2.3 异质结的多场调制 | 第50-51页 |
| 第六章 总结和展望 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 作者简历 | 第61页 |
