湿法刻蚀多晶硅周边问题
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 引言 | 第8-15页 |
| 1.1 研究背景 | 第8页 |
| 1.2 目前多晶硅的发展前景 | 第8-9页 |
| 1.3 多晶硅太阳电池 | 第9-13页 |
| 1.3.1 工作原理 | 第9-10页 |
| 1.3.2 相关参数 | 第10-13页 |
| 1.4 本论文选题依据及主要内容 | 第13-15页 |
| 第二章 丝印技术制备晶硅太阳电池 | 第15-24页 |
| 2.1 晶硅太阳电池生产工艺流程概述 | 第15-16页 |
| 2.2 湿法刻蚀工艺 | 第16-18页 |
| 2.2.1 常规多晶硅湿法刻蚀原理及工艺过程 | 第16-18页 |
| 2.3 KUTTLER湿法刻蚀(江苏无锡) | 第18-19页 |
| 2.4 刻蚀质量检测 | 第19-23页 |
| 2.5 本章小结 | 第23-24页 |
| 第三章 周边问题 | 第24-30页 |
| 3.1 周边刻蚀常见问题 | 第24-25页 |
| 3.1.1 周边刻蚀常见问题 | 第24-25页 |
| 3.2 成品电池测试 | 第25-27页 |
| 3.3 湿法刻蚀对电池参数的贡献 | 第27-30页 |
| 3.3.1 湿法刻蚀对开路电压V_(OC)的影响 | 第27页 |
| 3.3.2 湿法刻蚀对短路电流I_(sc)的影响 | 第27-28页 |
| 3.3.3 湿法刻蚀对并联电阻R_(sh)的影响 | 第28页 |
| 3.3.4 湿法刻蚀对电池效率的影响 | 第28-30页 |
| 第四章 总结 | 第30-31页 |
| 参考文献 | 第31-32页 |
| 致谢 | 第32页 |
