| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-28页 |
| 1.1 纳滤技术及纳滤膜简介 | 第10-13页 |
| 1.1.1 纳滤技术 | 第10-11页 |
| 1.1.2 纳滤膜 | 第11-13页 |
| 1.2 高通量抗污染纳滤膜研究进展 | 第13-19页 |
| 1.2.1 有机材料改性 | 第14-16页 |
| 1.2.2 无机纳米材料改性 | 第16-18页 |
| 1.2.3 无机-有机杂化材料改性 | 第18-19页 |
| 1.3 纳滤膜的制备方法 | 第19-26页 |
| 1.3.1 L-S相转化法 | 第19-20页 |
| 1.3.2 界面聚合法 | 第20-22页 |
| 1.3.3 表面涂覆法 | 第22-23页 |
| 1.3.4 表面接枝聚合法 | 第23页 |
| 1.3.5 层层自组装法 | 第23-25页 |
| 1.3.6 仿生粘合法 | 第25-26页 |
| 1.4 课题的提出与研究思路 | 第26-28页 |
| 1.4.1 课题的提出 | 第26-27页 |
| 1.4.2 课题研究思路 | 第27-28页 |
| 第二章 实验部分 | 第28-36页 |
| 2.1 实验设备与实验原料 | 第28-30页 |
| 2.1.1 实验设备 | 第28-29页 |
| 2.1.2 实验原料 | 第29-30页 |
| 2.2 实验方法 | 第30-36页 |
| 2.2.1 两性离子胺的表征 | 第30页 |
| 2.2.2 凹凸棒土的表征 | 第30页 |
| 2.2.3 纳滤膜的制备 | 第30-31页 |
| 2.2.4 纳滤膜的表征 | 第31-33页 |
| 2.2.5 纳滤膜性能评价 | 第33-36页 |
| 第三章 基于两性离子改性单体制备高通量抗污染电中性纳滤膜 | 第36-51页 |
| 3.1 引言 | 第36-37页 |
| 3.2 两性离子胺单体的制备与表征 | 第37-38页 |
| 3.2.1 两性离子胺单体的制备 | 第37页 |
| 3.2.2 两性离子胺单体的表征 | 第37-38页 |
| 3.3 PEI-g-SBMA/TMC纳滤膜的制备与表征 | 第38-44页 |
| 3.3.1 PEI-g-SBMA/TMC纳滤膜的制备 | 第38页 |
| 3.3.2 PEI-g-SBMA/TMC纳滤膜的表征 | 第38-44页 |
| 3.4 PEI-g-SBMA/TMC纳滤膜的分离性能 | 第44-47页 |
| 3.5 PEI-g-SBMA/TMC纳滤膜的抗污染性能 | 第47-49页 |
| 3.6 小结 | 第49-51页 |
| 第四章 基于凹凸棒土杂化改性制备高通量抗污染杂化纳滤膜 | 第51-63页 |
| 4.1 引言 | 第51-52页 |
| 4.2 凹凸棒土的表征 | 第52页 |
| 4.3 凹凸棒土杂化改性纳滤膜（PIP-ATP/TMC）的制备与表征 | 第52-57页 |
| 4.3.1 PIP-ATP/TMC纳滤膜的制备 | 第52-53页 |
| 4.3.2 PIP-ATP/TMC纳滤膜的表征 | 第53-57页 |
| 4.4 PIP-ATP/TMC纳滤膜的分离性能 | 第57-60页 |
| 4.5 PIP-ATP/TMC纳滤膜的抗污染性能 | 第60-62页 |
| 4.6 小结 | 第62-63页 |
| 第五章 基于POSS-PEG杂化改性制备高通量抗污染纳滤膜 | 第63-73页 |
| 5.1 引言 | 第63-64页 |
| 5.2 POSS-PEG杂化改性纳滤膜PIP-(POSS-PEG)/TMC制备与表征 | 第64-67页 |
| 5.2.1 PIP-(POSS-PEG)/TMC纳滤膜的制备 | 第64页 |
| 5.2.2 PIP-(POSS-PEG)/TMC纳滤膜的表征 | 第64-67页 |
| 5.3 PIP-(POSS-PEG)/TMC纳滤膜的分离性能 | 第67-70页 |
| 5.4 PIP-(POSS-PEG)/TMC纳滤膜的抗污染性能 | 第70-71页 |
| 5.5 小结 | 第71-73页 |
| 第六章 结论与展望 | 第73-75页 |
| 6.1 结论 | 第73-74页 |
| 6.2 研究展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-82页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
