| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 前言 | 第10-32页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 超疏水的理论研究及模型 | 第11-14页 |
| 1.2.1 粗糙度及表面自由能 | 第11页 |
| 1.2.2 杨氏(Young's)方程式 | 第11-12页 |
| 1.2.3 Wenzel's方程 | 第12-13页 |
| 1.2.4 Cassie-Baxter's方程 | 第13-14页 |
| 1.2.5 Cassie状态与Wenzel状态之间的过渡状态 | 第14页 |
| 1.3 超疏水表面的合成制备方法 | 第14-25页 |
| 1.3.1 电化学沉积法 | 第15-16页 |
| 1.3.2 静电纺丝法 | 第16-18页 |
| 1.3.3 湿化学反应法 | 第18页 |
| 1.3.4 相分离法 | 第18-19页 |
| 1.3.5 层层自组装法 | 第19-21页 |
| 1.3.6 等离子体处理 | 第21-22页 |
| 1.3.7 溶液浸泡法 | 第22-23页 |
| 1.3.8 溶胶-凝胶法 | 第23-25页 |
| 1.4 超疏水表面的应用 | 第25-26页 |
| 1.4.1 超疏水表面在纺织领域的应用 | 第25页 |
| 1.4.2 超疏水表面在交通运输领域的应用 | 第25-26页 |
| 1.4.3 超疏水表面在防腐蚀领域的应用 | 第26页 |
| 1.4.4 超疏水表面在其他领域的应用 | 第26页 |
| 1.5 制备超疏水表面存在的问题和发展趋势 | 第26-28页 |
| 1.5.1 存在的问题 | 第26-27页 |
| 1.5.2 超疏水表面的发展趋势 | 第27-28页 |
| 1.6 膜蒸馏的概述 | 第28页 |
| 1.7 膜蒸馏的种类 | 第28-31页 |
| 1.7.1 直接接触膜蒸馏(DCMD) | 第28-29页 |
| 1.7.2 气隙膜蒸馏(AGMD) | 第29页 |
| 1.7.3 气扫膜蒸馏(SGMD) | 第29-30页 |
| 1.7.4 真空膜蒸馏(VMD) | 第30-31页 |
| 1.8 研究目的及内容 | 第31-32页 |
| 第二章 聚丙烯超疏水中空纤维膜的制备 | 第32-48页 |
| 2.1 实验材料及实验仪器 | 第32-33页 |
| 2.2 聚丙烯中空纤维膜的超疏水改性 | 第33-34页 |
| 2.2.1 溶胶-凝胶法制备二氧化硅(SiO_2)颗粒 | 第33页 |
| 2.2.2 二氧化硅涂覆溶胶的制备 | 第33页 |
| 2.2.3 聚丙烯中空纤维膜的改性 | 第33页 |
| 2.2.4 修饰剂修饰改性后的聚丙烯中空纤维膜 | 第33-34页 |
| 2.3 聚丙烯中空纤维膜超疏水改性后的测试与表征 | 第34-35页 |
| 2.3.1 接触角的测量 | 第34页 |
| 2.3.2 表面形貌的观察 | 第34页 |
| 2.3.3 红外和透射电子显微镜分析 | 第34页 |
| 2.3.4 X射线光电子能谱仪分析 | 第34-35页 |
| 2.3.5 气体通量的测定 | 第35页 |
| 2.4 改性超疏水聚丙烯中空纤维膜的结果分析 | 第35-43页 |
| 2.4.1 二氧化硅颗粒大小的表征 | 第35-36页 |
| 2.4.2 膜表面分子结构和化学组成的分析 | 第36-38页 |
| 2.4.3 影响膜超疏水性的因素 | 第38-43页 |
| 2.4.3.1 二氧化硅用量的影响 | 第38-39页 |
| 2.4.3.2 聚丙烯颗粒用量的影响 | 第39-40页 |
| 2.4.3.3 非溶剂MEK用量的影响 | 第40-41页 |
| 2.4.3.4 涂覆次数对膜的影响 | 第41-43页 |
| 2.5 膜表面形貌结构 | 第43-45页 |
| 2.5.1 SEM观察改性后膜的表面形貌 | 第43-44页 |
| 2.5.2 原子力显微镜(AFM)观察膜的表面形貌 | 第44-45页 |
| 2.6 本章结论 | 第45-48页 |
| 第三章 改性超疏水聚丙烯中空纤维膜在膜蒸馏中的应用 | 第48-58页 |
| 3.1 引言 | 第48页 |
| 3.2 改性超疏水聚丙烯中空纤维膜的膜蒸馏实验 | 第48-50页 |
| 3.2.1 实验仪器及药品 | 第48页 |
| 3.2.2 孔隙率和平均孔径的测定 | 第48页 |
| 3.2.3 实验装置 | 第48-49页 |
| 3.2.4 实验步骤 | 第49-50页 |
| 3.2.4.1 膜蒸馏实验 | 第49页 |
| 3.2.4.2 电导率的测定 | 第49页 |
| 3.2.4.3 膜蒸馏水通量的计算 | 第49-50页 |
| 3.2.4.4 截留率的计算 | 第50页 |
| 3.3 膜蒸馏的结果与分析 | 第50-57页 |
| 3.3.1 改性后膜的孔隙率和平均孔径变化 | 第50-51页 |
| 3.3.2 改性后超疏水膜对膜蒸馏的影响 | 第51-53页 |
| 3.3.3 NaCl溶液温度在膜蒸馏中的影响 | 第53-54页 |
| 3.3.4 NaCl溶液浓度在膜蒸馏中的影响 | 第54-56页 |
| 3.3.5 真空度在膜蒸馏中的影响 | 第56-57页 |
| 3.4 本章结论 | 第57-58页 |
| 第四章 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
