| 摘要 | 第7-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-45页 |
| 1.1 微纳米加工技术 | 第13-21页 |
| 1.2 共混聚合物的相分离现象 | 第21-25页 |
| 1.3 图案化蓝宝石衬底技术 | 第25-28页 |
| 1.4 表面增强拉曼散射现象 | 第28-30页 |
| 1.5 硅基减反射现象 | 第30-33页 |
| 1.6 论文研究的目的和主要内容 | 第33-35页 |
| 参考文献 | 第35-45页 |
| 第二章 图案化蓝宝石衬底技术 | 第45-59页 |
| 2.1 引言 | 第45-46页 |
| 2.2 实验部分 | 第46-49页 |
| 2.2.1 实验原料与试剂 | 第46页 |
| 2.2.2 实验仪器与表征 | 第46-47页 |
| 2.2.3 复合纳米压印技术制备纳米图案化蓝宝石衬底 | 第47-48页 |
| 2.2.4 GaN/InGaN基LED的制备 | 第48-49页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第49-55页 |
| 2.3.1 复合纳米压印制备纳米图案化蓝宝石衬底 | 第49-52页 |
| 2.3.2 LED性能测试 | 第52-55页 |
| 2.4 本章小结 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 第三章 旋转涂膜共混聚合物薄膜的相分离研究 | 第59-79页 |
| 3.1 引言 | 第59-60页 |
| 3.2 实验部分 | 第60-62页 |
| 3.2.1 实验原料和试剂 | 第60页 |
| 3.2.2 实验仪器与表征 | 第60-61页 |
| 3.2.3 PS/PEG共混溶液的制备 | 第61页 |
| 3.2.4 PS/PEG共混薄膜的制备 | 第61-62页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第62-75页 |
| 3.3.1 PS/PEG共混薄膜相分离形貌的研究 | 第62-66页 |
| 3.3.2 PS/PEG组分比例对相分离形貌的影响 | 第66-68页 |
| 3.3.3 旋涂转速对相分离形貌的影响 | 第68-70页 |
| 3.3.4 共混物溶液的浓度对相分离形貌的影响 | 第70-73页 |
| 3.3.5 热处理对共混物相分离形貌的调节 | 第73-75页 |
| 3.4 本章小结 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-79页 |
| 第四章 基于共混聚合物相分离体系的纳米图案化技术 | 第79-93页 |
| 4.1 引言 | 第79-80页 |
| 4.2 实验部分 | 第80-82页 |
| 4.2.1 实验原料和试剂 | 第80页 |
| 4.2.2 实验仪器和表征 | 第80-81页 |
| 4.2.3 PS无序纳米孔结构的制备 | 第81页 |
| 4.2.4 PMMA/SiO_2/PS纳米孔三层结构的制备 | 第81页 |
| 4.2.5 蒸发镀膜、刻蚀和举离 | 第81-82页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第82-89页 |
| 4.3.1 基于PS/PEG共混薄膜相分离体系的纳米图案化方法 | 第82-87页 |
| 4.3.2 PMMA/SiO_2/PS纳米孔三层堆栈结构 | 第87-89页 |
| 4.4 本章小结 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-93页 |
| 第五章 共混聚合物相分离纳米图案化技术的应用 | 第93-119页 |
| 5.1 引言 | 第93-95页 |
| 5.2 实验部分 | 第95-100页 |
| 5.2.1 实验原料与试剂 | 第95页 |
| 5.2.2 实验仪器与表征 | 第95-96页 |
| 5.2.3 表面增强拉曼散射衬底的制备与测试 | 第96-97页 |
| 5.2.4 黑硅衬底的制备与测试 | 第97-98页 |
| 5.2.5 无序结构纳米图案化蓝宝石衬底的制备与测试 | 第98-100页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第100-115页 |
| 5.3.1 表面增强拉曼散射衬底 | 第100-106页 |
| 5.3.2 衬底 | 第106-112页 |
| 5.3.3 无序结构纳米图案化蓝宝石衬底 | 第112-115页 |
| 5.4 本章小结 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-119页 |
| 第六章 结论与展望 | 第119-121页 |
| 6.1 结论 | 第119-120页 |
| 6.2 展望 | 第120-121页 |
| 攻读博士学位期间的学术成果 | 第121-123页 |
| 致谢 | 第123-125页 |
