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基于选择性发射极和背钝化技术的高效太阳电池的研究

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第10-26页
    1.1 太阳电池研究背景第10-12页
    1.2 晶体硅片和太阳电池技术的趋势第12-15页
        1.2.1 商业生产的丝网印刷(SP)太阳电池第12-13页
        1.2.2 高效太阳电池的设计理念第13-15页
    1.3 选择性发射极(SE)的研究现状、存在问题及研究意义第15-19页
        1.3.1 商业制造中的SE技术第16-19页
        1.3.2 激光掺杂自对准金属化法制备SE第19页
    1.4 背钝化与背接触的研究现状、存在问题及研究意义第19-23页
        1.4.1 背表面钝化第20-21页
        1.4.2 局部背接触的形成第21-23页
    1.5 本课题的研究内容第23页
    1.6 本论文组织结构第23-24页
    1.7 本章小结第24-26页
第二章 激光掺杂结合光导电镀法制备正面选择性发射极的研究第26-40页
    2.1 激光掺杂结合光导电镀法制造正面电极的技术背景第26-32页
        2.1.1 激光掺杂过程原理第26-27页
        2.1.2 激光掺杂技术发展第27-29页
        2.1.3 光导电镀基本原理第29-30页
        2.1.4 光导电镀技术方案第30-32页
    2.2 激光的选定及其参数的研究第32-36页
        2.2.1 合适的激光第33-34页
        2.2.2 激光功率的影响第34-35页
        2.2.3 热退火修复激光损伤第35-36页
    2.3 选择性发射极实现高方块电阻的研究第36-38页
    2.4 正面栅线间距对电池的影响第38-39页
    2.5 本章小结第39-40页
第三章 电池背面形貌和扩散/氧化前清洗的研究第40-54页
    3.1 背面抛光方法第40页
    3.2 不同背面形貌对电池的影响第40-47页
        3.2.1 碱抛光对电池的影响第40-45页
        3.2.2 酸抛光对电池的影响第45-47页
    3.3 高温扩散/氧化前高效清洗的方法第47-50页
    3.4 高效清洗对电池的影响第50-53页
    3.5 本章小结第53-54页
第四章 AlO_x/SiN_x叠层膜背钝化的研究第54-65页
    4.1 AlO_x/SiN_x膜厚的模拟第55-60页
    4.2 AlO_x/SiN_x叠层膜制备的初期调整第60-61页
        4.2.1 AlO_x/SiN_x叠层的热退火对硅片少子寿命的影响第60-61页
        4.2.2 钝化层的沉积顺序对硅片少子寿命的影响第61页
    4.3 AlO_x/SiN_x膜厚对PERL电池的影响第61-64页
    4.4 本章小结第64-65页
第五章 电池背面开窗掺杂和金属接触的研究第65-84页
    5.1 背面掺杂激光的选定及其参数的研究第65-69页
    5.2 激光损伤修复的研究第69-71页
    5.3 金属背接触的研究第71-74页
    5.4 成品PERL电池热退火的研究第74-76页
    5.5 PECVD法制备掺硼非晶介质硼源的研究第76-82页
        5.5.1 激光掺杂硼源的选取:B_2H_6或者TMB第77-78页
        5.5.2 掺硼非晶介质层SiO_2(B)的研究第78-81页
        5.5.3 掺硼非晶介质层SiN_x(B)的研究第81-82页
        5.5.4 掺硼非晶介质层a-Si(B)的研究第82页
    5.6 本章小结第82-84页
第六章 抗光致衰减的铸造单晶PERL电池的研究第84-94页
    6.1 铸造单晶PERL电池制备的研究第84-90页
        6.1.1 方块电阻的研究第86页
        6.1.2 背面SiN_x厚度的研究第86-87页
        6.1.3 背面激光图形的研究第87-88页
        6.1.4 Al烧结温度的研究第88-90页
    6.2 低温热退火对铸造单晶PERL电池的影响第90-91页
    6.3 PERL电池光致衰减的研究第91-93页
    6.4 本章小结第93-94页
第七章 总结与展望第94-97页
    7.1 主要结论第94-96页
    7.2 展望第96-97页
致谢第97-98页
参考文献第98-106页
附录: 作者在攻读博士学位期间发表的论文第106页

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