摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-26页 |
1.1 太阳电池研究背景 | 第10-12页 |
1.2 晶体硅片和太阳电池技术的趋势 | 第12-15页 |
1.2.1 商业生产的丝网印刷(SP)太阳电池 | 第12-13页 |
1.2.2 高效太阳电池的设计理念 | 第13-15页 |
1.3 选择性发射极(SE)的研究现状、存在问题及研究意义 | 第15-19页 |
1.3.1 商业制造中的SE技术 | 第16-19页 |
1.3.2 激光掺杂自对准金属化法制备SE | 第19页 |
1.4 背钝化与背接触的研究现状、存在问题及研究意义 | 第19-23页 |
1.4.1 背表面钝化 | 第20-21页 |
1.4.2 局部背接触的形成 | 第21-23页 |
1.5 本课题的研究内容 | 第23页 |
1.6 本论文组织结构 | 第23-24页 |
1.7 本章小结 | 第24-26页 |
第二章 激光掺杂结合光导电镀法制备正面选择性发射极的研究 | 第26-40页 |
2.1 激光掺杂结合光导电镀法制造正面电极的技术背景 | 第26-32页 |
2.1.1 激光掺杂过程原理 | 第26-27页 |
2.1.2 激光掺杂技术发展 | 第27-29页 |
2.1.3 光导电镀基本原理 | 第29-30页 |
2.1.4 光导电镀技术方案 | 第30-32页 |
2.2 激光的选定及其参数的研究 | 第32-36页 |
2.2.1 合适的激光 | 第33-34页 |
2.2.2 激光功率的影响 | 第34-35页 |
2.2.3 热退火修复激光损伤 | 第35-36页 |
2.3 选择性发射极实现高方块电阻的研究 | 第36-38页 |
2.4 正面栅线间距对电池的影响 | 第38-39页 |
2.5 本章小结 | 第39-40页 |
第三章 电池背面形貌和扩散/氧化前清洗的研究 | 第40-54页 |
3.1 背面抛光方法 | 第40页 |
3.2 不同背面形貌对电池的影响 | 第40-47页 |
3.2.1 碱抛光对电池的影响 | 第40-45页 |
3.2.2 酸抛光对电池的影响 | 第45-47页 |
3.3 高温扩散/氧化前高效清洗的方法 | 第47-50页 |
3.4 高效清洗对电池的影响 | 第50-53页 |
3.5 本章小结 | 第53-54页 |
第四章 AlO_x/SiN_x叠层膜背钝化的研究 | 第54-65页 |
4.1 AlO_x/SiN_x膜厚的模拟 | 第55-60页 |
4.2 AlO_x/SiN_x叠层膜制备的初期调整 | 第60-61页 |
4.2.1 AlO_x/SiN_x叠层的热退火对硅片少子寿命的影响 | 第60-61页 |
4.2.2 钝化层的沉积顺序对硅片少子寿命的影响 | 第61页 |
4.3 AlO_x/SiN_x膜厚对PERL电池的影响 | 第61-64页 |
4.4 本章小结 | 第64-65页 |
第五章 电池背面开窗掺杂和金属接触的研究 | 第65-84页 |
5.1 背面掺杂激光的选定及其参数的研究 | 第65-69页 |
5.2 激光损伤修复的研究 | 第69-71页 |
5.3 金属背接触的研究 | 第71-74页 |
5.4 成品PERL电池热退火的研究 | 第74-76页 |
5.5 PECVD法制备掺硼非晶介质硼源的研究 | 第76-82页 |
5.5.1 激光掺杂硼源的选取:B_2H_6或者TMB | 第77-78页 |
5.5.2 掺硼非晶介质层SiO_2(B)的研究 | 第78-81页 |
5.5.3 掺硼非晶介质层SiN_x(B)的研究 | 第81-82页 |
5.5.4 掺硼非晶介质层a-Si(B)的研究 | 第82页 |
5.6 本章小结 | 第82-84页 |
第六章 抗光致衰减的铸造单晶PERL电池的研究 | 第84-94页 |
6.1 铸造单晶PERL电池制备的研究 | 第84-90页 |
6.1.1 方块电阻的研究 | 第86页 |
6.1.2 背面SiN_x厚度的研究 | 第86-87页 |
6.1.3 背面激光图形的研究 | 第87-88页 |
6.1.4 Al烧结温度的研究 | 第88-90页 |
6.2 低温热退火对铸造单晶PERL电池的影响 | 第90-91页 |
6.3 PERL电池光致衰减的研究 | 第91-93页 |
6.4 本章小结 | 第93-94页 |
第七章 总结与展望 | 第94-97页 |
7.1 主要结论 | 第94-96页 |
7.2 展望 | 第96-97页 |
致谢 | 第97-98页 |
参考文献 | 第98-106页 |
附录: 作者在攻读博士学位期间发表的论文 | 第106页 |